真空鍍膜機的真空室該如何設計呢?

真空鍍膜機相比大家都存有疑惑，今天來討論一下的是關于真空鍍膜設備真空室的設計問題，要是您有興趣了解的話可以和寶瑞鈦金一起來看看下面的內(nèi)容。

真空鍍膜技術是在真空條件下采用物理或者化學方法，使物體表面獲取所需膜體，真空鍍膜技術根據(jù)其采用方法的不同科分成蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積以及分子束外延等，這次分析的鍍膜設備采用的是磁控濺射鍍膜。

真空室是真空設備的一個主要組成部位，真空鍍膜設備真空室設計主要考慮的就是密封性和可靠性，結構必須要合理，真空設備的材料生產(chǎn)都是在真空室內(nèi)進行的，材料對真空度的影響要小，設計不能馬虎，要注意一些問題。

真空鍍膜封件的安裝方法：

安裝方法隨機械密封型式、機器的種類不同而有所不同，但其安裝要領幾乎都相同，安裝步驟和注意事項如下：（1）安裝尺寸的確定：安裝時，應按產(chǎn)品的使用說明書或樣本，保證機械密封的安裝尺寸。

（2）裝入前，軸（軸套）、壓蓋應刺，軸承狀況良好；密封件、軸、密封腔、壓蓋都應該清洗干凈。為減少摩擦阻力，軸上安裝機械密封的部位要薄薄地涂上一層油，以進行潤滑，考慮到橡膠O形圈的相溶性，若不宜用油，可涂肥皂水。浮裝式靜環(huán)不帶防轉銷的結構，不宜涂油，應干式裝入壓蓋。

（3）先將靜環(huán)與壓蓋一起裝在軸上，注意不要與軸相碰，然后將動環(huán)組件裝入。彈簧座或傳動座的緊定螺釘應分幾次均勻擰緊。

在未固定壓蓋之前，用手推補償環(huán)作軸向壓縮，松開后補償環(huán)能自動彈回無卡滯現(xiàn)象，然后將壓蓋螺拴均勻地鎖緊。

鍍膜行業(yè)發(fā)展的趨勢

當今鍍膜行業(yè)制作方式主要有兩種，一種是化學氣象沉積，一種是化學鍍膜（CVD），一種是物理氣象沉積，也就是真空鍍膜（PVD）。

化學鍍膜是把含有構成薄膜元素的氣態(tài)反應劑或液態(tài)反應所需其他氣體引入反應室，在襯底表面發(fā)生化學反應生成薄膜的過程。在化學薄膜的過程中，容易產(chǎn)生溶液污染，如果鍍層表面雜質多，鍍出來的效果不好。

化學鍍膜需要的反應溫度很高，一般要控制在1000℃左右，但很多基體材料是無法受此高溫，及時硬質合金，雖然能經(jīng)受高溫，但在化學鍍膜制作的環(huán)境下由于高溫也會造成晶粒粗大，引起脆性相，性能變壞。如果在硬質合金上鍍TiN，晶體擴散出來的碳會與溶液發(fā)生反應形成脫碳層，該層韌性差，抗彎強度低，造成刀具使用壽命縮短。

真空鍍膜機很好的解決了化學鍍膜產(chǎn)生的一系列問題。真空鍍膜是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電技術，利用其他放電是靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質及反應產(chǎn)物沉積在工件上。

所有鍍層材料都是在真空環(huán)境下通過等離子體沉積在工件表面，解決了化學鍍膜中的溶液污染問題，不會產(chǎn)生有毒或污染物質，鍍出來的膜層硬度更高，耐磨性和腐蝕性好，性能更穩(wěn)定。真空鍍膜工藝處理的溫度可以控制在150℃~500℃以下，適用于多種基體材料，可制備多姿多彩的膜層，鍍制硬質合金刀具可使其壽命提高2~10倍。