半導(dǎo)體型重慶打標(biāo)機概述

其發(fā)光源采用的是半導(dǎo)體列陣，所以光轉(zhuǎn)換效率非常高，達到40%以上；二、熱影響區(qū)小波長為355nm的高能量紫外光直接打斷材料表面的原子或分子化學(xué)鍵，對材料進行“冷”處理。熱耗損低，無需單獨配備冷卻系統(tǒng)；耗電少，1800W/H左右。整機性能非常穩(wěn)定，屬于免維護產(chǎn)品，整機免維護時間可達到150000小時，相當(dāng)于10年免維護，沒有燈的更換，無耗材?；A(chǔ)配置及技術(shù)規(guī)格：型號項目 CCC-DP50激光器 CCC-DP50（相干激光模塊）掃描振鏡 YAG-16mm鏡片聚焦透鏡 1064-110Q開關(guān) 英國Gooch & Housego控制軟件專業(yè)激光標(biāo)記軟件for Windows98/2000/XP冷卻系統(tǒng) 水冷工作方式 靜態(tài)標(biāo)記字體 50種以上的標(biāo)準(zhǔn)字體，并特殊設(shè)計手寫字體輸入功能輸入電源 220V AC 50Hz激光輸出功率 0-50W激光打標(biāo)機打標(biāo)頻率0.5－50KHZ整機功率 1500W打標(biāo)線寬 0.02mm標(biāo)刻深度 ≤3毫米（視材料可調(diào)）標(biāo)刻速度 ≤7000㎜/s小字符 0.2mm打標(biāo)范圍 標(biāo)準(zhǔn)：110mm×110mm

重慶打標(biāo)機的特性

一、微米細度

重慶打標(biāo)機的激光光斑直徑3mm，聚焦光斑小，小打標(biāo)線寬≤10um(微米),線條細度達微米，能雕刻出細的效果。

二、熱影響區(qū)小

波長為355nm的高能量紫外光直接打斷材料表面的原子或分子化學(xué)鍵，對材料進行“冷”處理。產(chǎn)熱區(qū)域小，大地保證了加工質(zhì)量。

三、打標(biāo)速度快

振鏡式精度打標(biāo)頭，打標(biāo)效果精細并可重復(fù)加工，標(biāo)記字符速度300字符/秒，線速度可達7000mm/s四、壽長

常見的重慶打標(biāo)機電光轉(zhuǎn)換率高，激光壽長達20000小時，終無換光源。

五、終免維護

正常使用情況下，整機終無換或添加任何易損易耗件。后期使用成本低。

六、節(jié)能性好

整機功率僅850瓦，普通同類設(shè)備的三分之一。年省電費數(shù)千元。

七、軟件功能強大

打標(biāo)軟件兼容CoreIDraw、CAD、Photoshop等文件，支持PLT、PCX、DXF、BMP等多種圖形文件格式及條形碼打標(biāo)，可直接使用SHX、TTF字庫，編碼，打印序列號、批號、日期等。      

 紫外激光加工成為冷加工，是因為紫外光子的高能量分子，直接把需要加工的金屬或者非金屬材料上面的分子使其脫離，然而這個脫離導(dǎo)致了分子跟材料分離了，這樣的工作方式不會產(chǎn)生熱量，由于這不會產(chǎn)生熱量的工作方式因而紫外激光加工的方式成為了冷加工，這就來源，也是跟傳統(tǒng)激光的區(qū)別。關(guān)于避免結(jié)露防止激光晶體及LD腔面結(jié)露禁止激光器系統(tǒng)在高濕度環(huán)境下工作，客戶應(yīng)確保環(huán)境濕度小于60%。

重慶打標(biāo)機中的CO2激光器受激后分子出現(xiàn)的三種運動狀態(tài)

與其他分子激光器一樣，CO2激光器的工作原理，即受激發(fā)射過程也較復(fù)雜。分子有三種不同的運動：

1分子內(nèi)電子的運動，其運動決定了分子的電子能態(tài)；

2分子內(nèi)的原則振動，即分子內(nèi)原子圍繞其平衡位置不停地做周期性振動——它決定了分子的振動能態(tài)；

3分子轉(zhuǎn)動，即分子為以整體在空間連續(xù)地旋轉(zhuǎn)，分子的這種運動決定了分子的轉(zhuǎn)動能態(tài)；CO2分子為線性對稱分子，兩個氧原子分別在碳原子的兩側(cè)。分子的各原子始終運動著，要饒其平衡位置不停地振動。根據(jù)分子振動理論，