湖北豐熱科技有限公司（原武漢離子熱處理研究所），專(zhuān)業(yè)制造輝光離子滲氮爐的高新技術(shù)企業(yè)；是集研發(fā)、生產(chǎn)、銷(xiāo)售安裝輝光離子滲氮爐，并為用戶提供成套的離子滲氮工藝技術(shù)服務(wù)。

離子滲碳從加熱、滲碳到淬火處理，都在同一裝置內(nèi)進(jìn)行。這種裝置是具有輝光放電機(jī)構(gòu)的加熱滲碳室和油淬火室的雙室型熱處理爐。離子轟擊熱處理還可以進(jìn)行離子碳氮共滲、離子硫氮共滲、離子滲金屬等，所以在國(guó)內(nèi)外具有很大的發(fā)展前途。

輝光離子氮化作為七十年代興起的一種新型滲氮方法與一般的氣體滲氮相比，輝光離子滲氮的特點(diǎn)有：滲氮速度較快，可適當(dāng)縮短滲氮周期，離子氮化時(shí)間短，能縮短到氣體氮化時(shí)間的1/3～2/3。滲氮層脆性小，離子氮化表面形成的白層很薄，甚至沒(méi)有，另外引起的變形小，特別適宜于形狀復(fù)雜的精密零件。滲氮層脆性小，離子氮化表面形成的白層很薄，甚至沒(méi)有，另外引起的變形小，特別適宜于形狀復(fù)雜的精密零件。

Roth等人用離子捕獲原理解釋APGD，即當(dāng)所用工作電壓頻率高到半個(gè)周期內(nèi)可在極板之間捕獲正離子，又不高到使電子也被1捕獲時(shí)，將在氣體間隙中留下空間電荷，它們影響下半個(gè)周期放電，使所需放電場(chǎng)強(qiáng)明顯降低，有利于產(chǎn)生均勻的APGD。

Roth等人在實(shí)驗(yàn)室的一臺(tái)氣體放電等離子體實(shí)驗(yàn)裝置中實(shí)現(xiàn)了Ar、He和空氣的“APGD”。1993年Okazaki小組利用金屬絲網(wǎng)（絲直徑0.035mm，325目）電極為PET膜（介質(zhì)）、頻率為50Hz的電源，在1.5mm的氣體（亞氣、氮?dú)?、空氣）間隙中做了大量的實(shí)驗(yàn)，并宣稱(chēng)實(shí)現(xiàn)了大氣壓輝光放電。輝光離子滲氮的特點(diǎn)有：離子轟擊有凈化表面作用，自動(dòng)去除鈍化膜，不銹鋼、耐熱鋼材料無(wú)需預(yù)先去除鈍化膜，可使不銹鋼、耐熱鋼工件直接滲氮。