鍍膜的工藝種類(lèi)有哪些不同點(diǎn)?

鍍膜的工藝種類(lèi)有哪些不同點(diǎn)？ 1、水電鍍： 一般適用于ABS料、ABS PC料的產(chǎn)品。主要工藝是將需電鍍的產(chǎn)品放入化學(xué)電鍍液中進(jìn)行電鍍。依據(jù)客戶的不同需求，可鍍成不同的色彩，與高光銀色、亞銀色、灰銀，槍色，金色，黑鉻色，半光鉻。因?yàn)殡婂兒蟮漠a(chǎn)品其導(dǎo)電性顯著增強(qiáng)，關(guān)于某些需絕緣的部件怎么辦？ 方法有兩種：其一，在需絕緣的部位涂上絕緣油，該部位在電鍍時(shí)就不會(huì)被電鍍到，然后到達(dá)絕緣作用！當(dāng)然，涂了絕緣油的部位會(huì)變黑，就不適合作為外觀面了。其二，在需電鍍的部位用特別的膠紙貼住，維護(hù)起來(lái)，同樣到達(dá)絕緣的作用。 2、真空離子鍍，又稱(chēng)真空鍍膜：一般適用規(guī)模較廣，如ABS料、ABS PC料、PC料的產(chǎn)品。一起因其工藝流程雜亂、環(huán)境、設(shè)備要求高，單價(jià)比水電鍍貴重?，F(xiàn)對(duì)其工藝流程作扼要介紹：產(chǎn)品外表清潔、去靜電--〉噴底漆--〉烘烤底漆--〉真空鍍膜--〉噴面漆--〉烘烤面漆--〉包裝。 真空電鍍可分為一般真空電鍍、UV真空電鍍、真空電鍍特別； 工藝有蒸鍍、濺鍍、槍色等。 3、兩種工藝的差異：水電鍍因工藝較簡(jiǎn)略，從設(shè)備到環(huán)境得要求均沒(méi)有真空離子鍍嚴(yán)苛，然后被廣泛運(yùn)用。在東莞很簡(jiǎn)單找到此類(lèi)的供貨商。而真空電鍍優(yōu)異供貨商在東莞、深圳兩地不是許多，至少俺目前沒(méi)有太多此類(lèi)供貨商信息。但，水電鍍有個(gè)缺點(diǎn)，只能鍍ABS料和ABS PC料（此料鍍的作用也不是很抱負(fù)）。而ABS料耐溫只要80℃，這使得它的運(yùn)用規(guī)模被限制了。而，真空電鍍可達(dá)200℃左右，這對(duì)運(yùn)用在高溫的部件就能夠進(jìn)行電鍍處理了。像風(fēng)嘴、風(fēng)嘴環(huán)運(yùn)用PC料，這些部件均要求耐130℃的高溫。另，一般要求耐高溫的部件，做真空電鍍都要在終噴一層UV油，這樣使得產(chǎn)品外表即有光澤、有耐高溫、一起又確保附著力。

真空鍍膜設(shè)備在哪些行業(yè)中需要的

真空鍍膜設(shè)備在哪些行業(yè)中需要的 1、鍍膜技術(shù)在裝飾品方面的應(yīng)用 隨著經(jīng)濟(jì)的發(fā)展和生活水平的提高，人們喜歡將手表殼、表帶、服飾、燈飾、眼鏡架、室內(nèi)外裝飾件、五金箱包、手機(jī)殼、手機(jī)視屏、衛(wèi)生潔具、食品包裝等裝飾品精飾得五彩繽紛。 2、鍍膜技術(shù)在刀具、模具等金屬切削加工工具方面的應(yīng)用 在生活中我們會(huì)看到金黃色的、鈷銅色的、黑色的等七雜八色的鉆頭、銑刀、模具等，這些就是經(jīng)過(guò)鍍膜技術(shù)加工后的涂層工具。 （1）金黃色的是在刀具上涂鍍了TiN、ZrN 涂層。TiN是代應(yīng)用廣泛的硬質(zhì)層材料。 （2）黑色的是在切削工具上涂了TiC、CrN涂層。 （3）鈷銅色的是在刀具上鍍涂了TiALN涂層。 3、鍍膜技術(shù)在建筑玻璃和汽車(chē)玻璃上的應(yīng)用 建筑玻璃有透光和隔熱兩個(gè)基本功能。普通玻璃能透過(guò)絕大部分太陽(yáng)光輻射能量，這對(duì)采光和吸收太陽(yáng)光線的能量十分有利。而對(duì)于空間紅外輻射，普通玻璃雖能阻止室內(nèi)的熱量直接透過(guò)室外，但熱量被玻璃吸收后的二次散熱也會(huì)造成很大的損失。隨著經(jīng)濟(jì)的發(fā)展，普通玻璃已越來(lái)越不能滿足人們的要求。而陽(yáng)光控制膜和低輻射膜正好能彌補(bǔ)了普通玻璃在這一方面的不足。陽(yáng)光控制膜可以滿足低緯度地區(qū)降低室內(nèi)溫度的要求；而低輻射膜則能滿足高緯度地區(qū)充分接受太陽(yáng)輻射能量和阻止室內(nèi)熱量外流的要求。 在玻璃上，鍍涂一層TiO2就能使其變成防霧、防露和自清潔玻璃。這種工藝在汽車(chē)玻璃上有很好的應(yīng)用。多弧離子鍍膜機(jī) 4、鍍膜技術(shù)在平板顯示器中的應(yīng)用 所有各類(lèi)平板顯示器都要用到各種類(lèi)型的薄膜，而且?guī)缀跛蓄?lèi)型的平板顯示器件都需要使用ITO膜，以滿足透明電器的要求?？梢院敛豢鋸埖恼f(shuō)：沒(méi)有薄膜技術(shù)就沒(méi)有平板顯示器件。

磁控鍍膜機(jī)的濺射方式有哪些

磁控鍍膜機(jī)的濺射方式有哪些 下面小編就來(lái)給大家講講磁控鍍膜設(shè)備的濺射方式。 主要的磁控濺射鍍膜設(shè)備可以根據(jù)其特征分為以下四種：(1)直流濺射;(2)射頻濺射;(3)磁控濺射;(4)反應(yīng)濺射.另外,利用各種離子束源也可以實(shí)現(xiàn)薄膜的濺射沉積. 現(xiàn)在的直流濺射(也叫二級(jí)濺射)較少用到,原因是濺射氣壓較高,電壓較高,濺射速率小,膜層不穩(wěn)定等缺點(diǎn). 直流濺射發(fā)展后期,人們?cè)谄浔砻婕由洗艌?chǎng),磁場(chǎng)束縛住自由電子后,以上缺點(diǎn)均有所改善,也是現(xiàn)階段廣泛應(yīng)用的一種濺射方法. 而后又有中頻濺射,提高了陰極發(fā)電速率,不易造成放電、靶材等現(xiàn)象. 而射頻濺射是很高頻率下對(duì)靶材的濺射,不易放電、靶材可任選金屬或者陶瓷等材料.沉積的膜層致密,附著力良好.