真空鍍膜設備背壓檢漏法

背壓檢漏法是一種充壓檢漏與真空檢漏相結合的方法，真空鍍膜設備中多用于封離后的電子器件、半導體器件等密封件的無損檢漏技術中。

其檢漏過程基本上可分為充壓、凈化和檢漏三個步驟。

(1)充壓過程是將被檢件在充有高壓示漏氣體的容器內(nèi)存放一定時間，如被檢件有漏孔，示漏氣體就可以通過漏孔進入被檢件的內(nèi)部，并且將隨浸泡時間的增加和充氣壓力的升高，被檢件內(nèi)部示漏氣體的分壓力也必然會逐漸升高。

(2)凈化過程是采用干燥氮氣流或干燥空氣流在充壓容器外部或在其內(nèi)部噴吹被檢件。

如不具備氣源時也可使被檢件靜置，以便去除吸附在被檢件外表面上的示漏氣體。

在凈化過程中，因為有一部分氣體必然會從被檢件內(nèi)部經(jīng)漏孔流失，從而導致被檢件內(nèi)部示漏氣體的分壓力逐漸下降，而且凈化時間越長，示漏氣體的分壓降就越大。

(3)檢漏過程則是將凈化后的被檢件放入真空室內(nèi)，將檢漏儀與真空室相連接后進行檢漏。

抽真空后由于壓差作用，示漏氣體即可通過漏孔從被檢件內(nèi)部流出，然后再經(jīng)過真空室進入檢漏儀，按檢漏儀的輸出指示判定漏孔的存在及其漏率的大小。

國內(nèi)真空鍍膜機械的發(fā)展

我國鍍膜市場一直在擴大需求，行業(yè)的高速發(fā)展同時也帶動真空設備行業(yè)的發(fā)展速度。每年我國都需要進口大量的鍍膜真空設備，這些設備工藝技術比較高，可靠性強，價錢也非常之高，不可否認的是這些設備大大提高了我國部分的鍍膜企業(yè)的生產(chǎn)水平，使之達到發(fā)達國家水平；

國內(nèi)的真空設備也相對引進先進技術取得了巨大進步，真空鍍膜設備已經(jīng)達到較高水準，完全能夠滿足一般企業(yè)的需求，部分實力廠家產(chǎn)品更是銷往全球，譬如匯成真空。

整個鍍膜行業(yè)被物理和化學鍍膜占據(jù)，他們的發(fā)展左右著我國整個鍍膜行業(yè)的發(fā)展，而隨著環(huán)保的提倡，化學鍍膜漸漸減少，環(huán)保物理鍍膜占據(jù)更多江山，鍍膜真空設備成為了這個行業(yè)發(fā)展的指標，政策對環(huán)保設備的大力支持未來真空設備的發(fā)展將更加廣闊。

氧化物怎么鍍膜？

氧化物鍍膜過程是很復雜的，但其主要影響因素就是鍍膜原料成膜的時候凝聚力、鍍膜與基材的吸附力及基材溫度，而三者之間又相互關聯(lián)約束。那氧化物的鍍膜到底是怎么個過程呢？下面我們就來聽聽真空鍍膜設備至成真空科技的講解！

從蒸發(fā)源射出的蒸汽流脫離蒸鍍原料表面的時候溫度很高，能量也比較高，在上升通過蒸發(fā)區(qū)到達基材表面的過程中，由于碰撞、運動中的能量交換導致動能下降，到達基材表面的粒子很快與基材交換能量，迅速沉積在其表面。

在鍍膜工藝中，離子轟擊改善基材的表面，在蒸發(fā)區(qū)建立等離子氣體以提高氣化微粒功能等輔助手段，較好地解決了鍍膜與基材結合牢固度的問題。其實在眾多的鍍膜工藝里，氧化物鍍膜工藝和程序是有非常大的難度的，因為它面臨著很多因素影響，環(huán)境和材料等等，但是氧化物的鍍膜工藝卻是受到廣大的企業(yè)生產(chǎn)的親睞。所以這種鍍膜工藝和設備的發(fā)展趨勢會越來越好！