為了進(jìn)行化學(xué)拋光，必須使零件表面的凸部比凹部?jī)?yōu)先溶解，因此應(yīng)將化學(xué)拋光的作用分為兩個(gè)階段來(lái)認(rèn)識(shí)。一階段是化學(xué)拋光時(shí)金屬表面現(xiàn)象的幾何凸凹的整平，去除較粗糙的表面不平度，獲得平均為數(shù)微米到數(shù)十微米的光潔度；第二階段是晶界附近的結(jié)晶不完整部分的平滑化，去除微小的不平，在0.1～0.01μm，相當(dāng)于光波長(zhǎng)的范圍?？蓪㈦A段稱為宏觀拋光或平滑化，把第二階段稱為微觀拋光或光澤化。

化學(xué)拋光是靠化學(xué)試劑的化學(xué)浸蝕作用對(duì)樣品表面凹凸不平區(qū)域的選擇性溶解作用消除磨痕、浸蝕整平的一種方法。學(xué)拋光的優(yōu)點(diǎn)是化學(xué)拋光設(shè)備簡(jiǎn)單，不需要什么特殊設(shè)備，只需要一個(gè)盛拋光液的玻璃杯和夾持試樣的夾子就可以了。

化學(xué)拋光主要用不銹鋼、銅及銅合金等?；瘜W(xué)拋光對(duì)鋼鐵零件，尤其是低碳鋼有較好的拋光效果，所以對(duì)于一些機(jī)械拋光時(shí)較為困難的鋼鐵零件，可采用化學(xué)拋光。

化學(xué)拋光工藝流程

　　 化學(xué)(或電化學(xué))除油→熱水洗→流動(dòng)水洗→除銹(10%硫酸)→流動(dòng)水洗→化學(xué)拋光→流動(dòng)水洗→中和→流動(dòng)水洗→轉(zhuǎn)入下道表面處理工序

為什么要選擇化學(xué)拋光，而不是機(jī)械拋光或電拋光？

答：（1）可用于機(jī)械拋光甚感困難或無(wú)法加工的制件。如形狀、結(jié)構(gòu)比較復(fù)雜，具有不規(guī)則凹、凸結(jié)構(gòu)的制件，狹小縫隙或孔洞的內(nèi)表面，精細(xì)薄小的制件等。

（2）一般為簡(jiǎn)單的手工操作，操作方法簡(jiǎn)單，容易掌握。

（3）拋光后的制件，表面粗糙度非常均勻一致，其均勻性超過(guò)機(jī)械拋光和電拋光。

（4）作業(yè)時(shí)勞動(dòng)強(qiáng)度小，無(wú)噪聲和粉塵污染。

為了保證化學(xué)拋光的效果，必須使金屬表面溶解，并在表面上形成液體膜或固體膜。因此，金屬的化學(xué)拋光液必須具有溶解金屬的能力和形成保護(hù)膜的能力。

化學(xué)拋光中往往產(chǎn)生氫氣，這是拋光具有氫脆敏感性材料時(shí)必須注意的問(wèn)題。另外，拋光液溫度高達(dá)100～200℃時(shí)，還會(huì)產(chǎn)生退火作用。為了把氫脆和退火作用的影響減小到低，就必須在適宜的溫度范圍內(nèi)選擇盡可能短的拋光時(shí)間。