PVD是物理氣相沉積技術(shù)的簡(jiǎn)稱(chēng)，是指在真空條件下，采用物理的方法將材料（俗稱(chēng)靶材或膜料）氣化成氣態(tài)分子、原子或離子，并將其沉積在工件形成具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)，常見(jiàn)的PVD沉積技術(shù)有：蒸發(fā)技術(shù)、濺射技術(shù)、電弧技術(shù)。

目前,提高NbFeB永磁材料耐腐蝕性能的方法有添加合金元素和外加防護(hù)性鍍層,但主要以添加防護(hù)性鍍層(金屬鍍層、有機(jī)物鍍層和復(fù)合鍍層)為主。防護(hù)性鍍層可以阻礙腐蝕相與基體之間的相互接觸從而減緩磁體的腐蝕。添加鍍層的方法有電鍍、化學(xué)鍍、物理氣相沉積等。由于灰塵對(duì)鍍膜效果會(huì)產(chǎn)生比較大的影響，因此為了避免在真空鍍膜設(shè)備中留下灰塵，應(yīng)該在使用中注意以上幾點(diǎn)來(lái)盡量避免，除此也要注意經(jīng)常清洗，避免灰塵越積越多。

真空鍍膜機(jī)主要指一類(lèi)需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類(lèi)，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。

在鍍膜領(lǐng)域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜性能的一個(gè)重要因素。因此，當(dāng)評(píng)價(jià)薄膜樣品的性能時(shí)，需要檢測(cè)該薄膜樣品不同厚度下的性能。對(duì)于真空鍍膜的情形，這往往需要進(jìn)行多次試樣的制備。

真空鍍膜設(shè)備膜層色澤不均：(1)底漆噴涂得不均勻。應(yīng)改進(jìn)底漆的施涂方法。(2)膜層太薄。應(yīng)適當(dāng)提高濺射速度或延長(zhǎng)濺射時(shí)間。(3)夾具設(shè)計(jì)不合理。應(yīng)改進(jìn)夾具設(shè)計(jì)。(4)鍍件的幾何形狀太復(fù)雜。應(yīng)適當(dāng)提高鍍件的旋轉(zhuǎn)速度。真空鍍膜設(shè)備膜層發(fā)皺、龜裂：(1)底漆噴涂得太厚。應(yīng)控制在7—lOtan厚度范圍內(nèi)。(2)涂料的粘度太高。應(yīng)適當(dāng)降低。(3)蒸發(fā)速度太快。應(yīng)適當(dāng)減慢。(4)膜層太厚。應(yīng)適當(dāng)縮短濺射時(shí)間?，F(xiàn)在，系統(tǒng)的平均尺寸規(guī)格已經(jīng)在降低，而應(yīng)用小規(guī)格設(shè)備進(jìn)行光學(xué)鍍膜的生產(chǎn)也已經(jīng)轉(zhuǎn)變成為純技術(shù)問(wèn)題。(5)鍍件溫度太高。應(yīng)適當(dāng)縮短對(duì)鍍件的加溫時(shí)間。