化學(xué)拋光適用什么材料？工藝原理是如何的

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化學(xué)拋光主要用不銹鋼、銅及銅合金等?；瘜W(xué)拋光對(duì)鋼鐵零件，尤其是低碳鋼有較好的拋光效果，所以對(duì)于一些機(jī)械拋光時(shí)較為困難的鋼鐵零件，可采用化學(xué)拋光。

原理：化學(xué)拋光是靠化學(xué)試劑的化學(xué)浸蝕作用對(duì)樣品表面凹凸不平區(qū)域的選擇性溶解作用消除磨痕、浸蝕整平的一種方法。化學(xué)拋光設(shè)備簡(jiǎn)單，能夠處理細(xì)管、帶有深孔及形狀復(fù)雜的零件，生產(chǎn)?；瘜W(xué)拋光可作為電鍍預(yù)處理工序，也可在拋光后輔助以必要的防護(hù)措施直接使用。

陽(yáng)極氧化鋁板化學(xué)拋光中出現(xiàn)的缺陷及其糾正措施是在生產(chǎn)的發(fā)展過(guò)程中不斷總結(jié)完善的。 光亮度不足。這是化學(xué)拋光中較關(guān)心的事情。光亮度沒(méi)有達(dá)到預(yù)期的目標(biāo)，其原因可從特殊鋁材的生產(chǎn)工藝和化學(xué)拋光工藝這兩方面分析。有關(guān)特殊鋁材的生產(chǎn)工藝已經(jīng)有詳細(xì)的論述。建議采用鋁純度99.70%及其以上級(jí)別的鋁錠，來(lái)生產(chǎn)特殊鋁材；鋁材加工工藝中質(zhì)量控制為化學(xué)拋光得到高光亮度表面奠定基礎(chǔ)?；瘜W(xué)拋光后，具有很高的光亮度。槽液控制中含量不足，會(huì)使表面光亮度不足，其表面可能過(guò)多地附著一層銅；含量太高，鋁材表面形成彩虹膜，會(huì)使表面模糊或不透明，還引起光亮度不足；化學(xué)拋光時(shí)間不足，溫度不夠，攪拌不充分，槽液老化等也會(huì)使化學(xué)拋光表面光亮度不足。槽液的相對(duì)密度較大，防止鋁材浮出拋光槽液的液面，致使上部鋁材光亮度不足。水的影響造成光亮度不足，往往容易被忽視。較好用干燥的鋁材進(jìn)入化學(xué)拋光槽液，杜絕水分的帶入。

半導(dǎo)體行業(yè)CMP技術(shù)還廣泛的應(yīng)用于集成電路(IC)和超大規(guī)模集成電路中(ULSI)對(duì)基體材料硅晶片的拋光。隨著半導(dǎo)體工業(yè)的急速發(fā)展，對(duì)拋光技術(shù)提出了新的要求，傳統(tǒng)的拋光技術(shù)（如：基于淀積技術(shù)的選擇淀積、濺射等）雖然也可以提供“光滑”的表面，但卻都是局部平面化技術(shù)，不能做到全局平面化，而化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)解決了這個(gè)問(wèn)題，它是可以在整個(gè)硅圓晶片上平坦化的工藝技術(shù)。