電解拋光是指金屬制品在一定組成的溶液中進行特殊的陽極處理以獲得平滑、光亮表面的精飾加工過程。

它既可以作制品電鍍前的表面準(zhǔn)備，也可作鍍后表面的精飾還可作為金屬表面獨立的精飾加工方法，電解拋光適用于有色金屬及其他硬度低的單相合金；如鋁合金、奧氏體不銹鋼、高錳鋼等。但電解拋光不適用于化學(xué)成分不均勻、顯微偏析嚴(yán)重的金屬及金屬基體的非金屬夾雜物的金相試樣，用塑料鑲嵌的試樣也不宜采用電解拋光，因為電解拋光會造成局部腐蝕嚴(yán)重。

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  ②磷||酸-鉻酸-硫||酸酸性電解拋光法（Battle法），硫||酸能有效降低拋光操作電流密度、電壓，并在一定范圍內(nèi)容許在較高溫度下進行電解拋光，同時還能抑制點蝕的發(fā)生，鉻酸提高鋁材拋光表面鏡面反射率。

  ③氟硼酸電解拋光工藝，以氟硼酸為主要成分電解液，這一工藝比較適合高純鋁材，其反射率可達到85%。

  ④硫||酸-鉻酸電解拋光工藝（Aluflex法），其槽液控制相對比較簡單，在此拋光液中鋁的溶解速度在初期的2min相當(dāng)快，約為25μm左右。且當(dāng)槽液中鋁離子含量太高時，會出現(xiàn)光亮度不足或表面有附著物等缺陷。

為了獲得光澤的電解拋光表面,必須使表面上的微觀粗糙度低于光的波長.要達到這個目的,通常認(rèn)為應(yīng)該形成比中間黏液更厚、更致密，更易鈍化的緊密膜。這可以是趨于飽和的高黏度液膜，也可以是固體膜。這樣金屬的溶解是在固體膜內(nèi)進行的，緊密膜的形成速度應(yīng)為超過該膜的溶解速度，這是存在緊密膜的前提。在幾乎無對流的特殊條件下，黏膜層變得十分厚，也更加緊密，甚至可以出現(xiàn)光的干涉色，在這樣厚的固體膜內(nèi)，陽極電流密度變得非常小、其可以使微觀凸起部位溶解，而凹入部位則不溶解，這就達到了微觀整平的目的，由于類似的狀態(tài)在金屬表面的各個部位都存在，使表面各個部分均發(fā)生微觀整平，這種表面的無序微觀整平的終結(jié)果就使金屬表面變得光亮。