脈沖激光沉積系統(tǒng)的特點有哪些？

?  超高真空不銹鋼腔體

?  可集成熱蒸發(fā)源或濺射源

?  可旋轉(zhuǎn)的耐氧化基片加熱臺

?  流量計或針閥準(zhǔn)確控制氣體流量

?  標(biāo)準(zhǔn)真空計?  干泵與分子泵

?  可選配不銹鋼快速進(jìn)樣室

?  可選配基片-靶材距離自動控制系統(tǒng)

?  是金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬納米薄膜、多層膜、超晶格的較佳設(shè)備

以上就是為大家介紹的全部內(nèi)容，希望對大家有所幫助。如果您想要了解更多脈沖激光沉積的知識，歡迎撥打圖片上的熱線聯(lián)系我們。