真空蒸鍍金屬薄膜怎么樣？（1）具有優(yōu)良的耐折性和良好的韌性，很少出現(xiàn)針的孔和裂口，無(wú)揉曲龜裂現(xiàn)象，因此對(duì)氣體、水蒸汽、氣味、光線等的阻隔性提高。（2）具有很好的金屬光澤，光反射率達(dá)到97%；且可以通過(guò)涂料處理形成彩色膜，其裝潢成效是鋁箔所不及的。（3）可采用屏蔽式進(jìn)行部分鍍鋁，以獲得任意圖案或透明窗口，能看到內(nèi)裝物。



PVD鍍膜加工過(guò)程的均勻性分析：薄膜均勻性的概念：厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學(xué)薄膜的尺度上看(也就是1/10波長(zhǎng)作為單位，約為100A)，真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見(jiàn)光波長(zhǎng)的1/10范圍內(nèi)，也就是說(shuō)對(duì)于薄膜的光學(xué)特性來(lái)說(shuō)，真空鍍膜沒(méi)有任何障礙。但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說(shuō)要實(shí)現(xiàn)10A甚至1A的表面平整，是現(xiàn)在真空鍍膜中主要的技術(shù)含量與技術(shù)瓶頸所在，具體控制因素下面會(huì)根據(jù)不同鍍膜給出詳細(xì)解釋。


PVD鍍膜過(guò)程非常復(fù)雜，由于鍍膜原理的不同分為很多種類，僅僅因?yàn)槎夹枰哒婵斩榷鴵碛薪y(tǒng)一名稱。所以對(duì)于不同原理的PVD真空鍍膜，影響均勻性的因素也不盡相同。并且均勻性這個(gè)概念本身也會(huì)隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義。PVD鍍膜加工過(guò)程的均勻性分析：化學(xué)組分上的均勻性：就是說(shuō)在薄膜中，化合物的原子組分會(huì)由于尺度過(guò)小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過(guò)程不科學(xué)，那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。

pvd真空蒸發(fā)鍍膜：定義：pvd真空蒸發(fā)鍍膜是在真空條件下，用蒸發(fā)器加熱蒸發(fā)物質(zhì)使之汽化，蒸發(fā)粒子流直接射向基片并在基片上沉積形成固態(tài)薄膜的技術(shù)。真空蒸發(fā)踱膜主要經(jīng)歷：1、采用各種能源方式轉(zhuǎn)換成熱能，加熱膜材使之蒸發(fā)或升華，成為具有一定能星的氣態(tài)粒子（原子、分子和原子團(tuán)）；2、離開(kāi)膜材表面，具有相當(dāng)運(yùn)動(dòng)速度的氣態(tài)粒子以基本上無(wú)碰撞的直線飛行輸運(yùn)到基體表面；3、到達(dá)基體表面的氣態(tài)粒子凝聚形核后生長(zhǎng)成固相薄膜；4、組成薄膜的原子重組排列或產(chǎn)生化學(xué)鍵合。