鋁氧化所用的電解液一般為中等溶解能力的酸性溶液，鉛作為陰極，僅起導(dǎo)電作用。鋁以及其鋁合金制品進(jìn)行陽極氧化時，鋁氧化在陽極作用下發(fā)生了下列的反應(yīng)：2Al--->6e- 2Al3 ；在陰極的作用下發(fā)生下列反應(yīng)：6H2O 6e---->3H2 6OH-；同時其酸對鋁及制品的生成的氧化膜進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)溶解，其反應(yīng)為：2Al 6H --->2Al3 3H2；Al2O3 6H --->2Al3 3H2O氧化膜的生長過程就是氧化膜不斷生成和不斷溶解的過程。

無孔層形成。通電在剛開始的幾秒鐘到幾十秒的時間之內(nèi)，鋁表面立即生成一層致密的、具有很高絕緣性能的鋁氧化膜層，厚度約0.01～0.1微米，為一層連續(xù)的、無孔的薄膜層，我們稱之為無孔層或者是阻擋層，此膜的出現(xiàn)阻礙了電流的通過和膜層的繼續(xù)增厚。無孔層的厚度與形成的電壓大小成正比關(guān)系，與氧化膜在電解液中的溶解速度成反比。因此，曲線ab段的電壓就表現(xiàn)出其由零開始急劇增大至其值。

鋁及鋁合金的陽極氧化

2.1普通陽極氧化

鋁及其合金經(jīng)普通陽極氧化可在其表面形成一層Al2O3膜，使用不同的陽極氧化液，得到的Al2O3膜結(jié)構(gòu)不同。陽極氧化時，鋁表面的氧化膜的成長包含兩個過程：膜的電化學(xué)生成和化學(xué)溶解過程。只有膜的成長速度大于溶解速度時，氧化膜才能成長、加厚。普通陽極氧化主要有硫酸陽極氧化、鉻酸陽極氧化、草酸陽極氧化和磷酸陽極氧化等，以下介紹一些普通陽極氧化新工藝。

硫酸硬質(zhì)陽極氧化

硫酸法成分簡單穩(wěn)定，操作容易，低溫氧化可獲得數(shù)十至數(shù)百微米的硬質(zhì)膜。硫酸硬質(zhì)陽極氧化的主要缺陷是一般要在低溫下進(jìn)行，而且受鋁合金組成的影響很大。

混合酸常溫硬質(zhì)陽極氧化

混合酸常溫硬質(zhì)陽極氧化是指以硫酸為主，加入少量草酸等二元酸，以獲得較厚的膜，同時擴(kuò)大使用溫度的上限，可允許將陽極氧化溫度提高到10-20℃之間，所獲得氧化膜的特征與硫酸陽極氧化膜相似。在10-20℃下電解，能獲得耐磨性好的氧化膜和高著色率；實(shí)行高電流密度的混合酸電解，可防止氧化膜溶解，可在較高的溫度下實(shí)施，降低生產(chǎn)成本，使膜層更加平滑、光潔、細(xì)密，厚度更大，硬度更高。