PET真空鍍膜設備相關問題的解決方法

PET真空鍍膜設備平均水消耗量為0.6m3/小時，每小時平均耗電：850W，每30天更換5次過濾芯，更換過濾芯數量20只，每天消耗過濾芯數量：0.7只，過濾芯可后級更換前級，更換周期也可根據具體情況延長。

設備在交付時會提供操作、調試、維修等一系列全套技術資料，包括操作和維修手冊。維修手冊中含電路圖、氣路圖、水管路圖，并列出控制設備、控制元件、易耗品以及易磨損的部件名稱、型號、規(guī)格、制造商或供應商，以便用戶可以隨時修理與維護清洗設備。

光學真空鍍膜機薄膜根據其用途分類、特性與應用可分為哪些膜

光學真空鍍膜機薄膜根據其用途分類、特性與應用可分為：反射膜、增透膜/減反射膜、濾光片、偏光片/偏光膜、補償膜/相位差板、配向膜、擴散膜/片、增亮膜/棱鏡片/聚光片、遮光膜/黑白膠等。相關衍生的種類有光學級保護膜、窗膜等。

光學真空鍍膜機光學薄膜的特點是：表面光滑，膜層之間的界面呈幾何分割;膜層的折射率在界面上可以發(fā)生躍變，但在膜層內是連續(xù)的;可以是透明介質，也可以是吸收介質;可以是法向均勻的，也可以是法向不均勻的。實際應用的薄膜要比理想薄膜復雜得多。這是因為：制備時，薄膜的光學性質和物理性質偏離大塊材料，起表面和界面是粗糙的，從而導致光束的漫反射;膜層之間的相互滲透形成擴散界面;由于膜層的生長、結構、應力等原因，形成了薄膜的各種向異性;膜層具有復雜的時間效應。

真空磁控濺射鍍膜機工藝,及人員技能選擇

很多人聽說過真空磁控濺射鍍膜工藝，大概只知道它的做用就是鍍膜，但是大家卻不知道，它的鍍膜原理以及流程，為什么它能鍍出精美的膜，包括后期這方面的工作人員該如何選擇，或者是規(guī)劃自己后期的發(fā)展，各人認為，只有你對這個行業(yè)有詳細的了解，這樣你才能做出正確的選擇。

首先給大家講解一下真空磁控濺射鍍膜機鍍膜流程，讓大家知道，那些漂亮的膜是怎么鍍出來的。一般在在鍍膜前，機器都要先抽真空，并且抽真空過程中要加熱，加熱的溫度取決于你工件的材質3。當真空度達到高真空，一般在0.005Pa左右時，開始Ar離子轟擊清洗，用電弧靶主弧轟擊清洗，接著用用用電弧和磁控靶混合打底和用磁控靶打底，然后通入要鍍的物質，后降溫出爐就可以了，整個鍍膜的過程就完成了，很多多人，覺的鍍膜工藝很繁瑣，技術含量很高。其實不然，只要你弄鍍膜流程和鍍膜過程的應該注意的細節(jié)，然后精力投入進去，其實還是非常好上手的。很過剛入門的新人，一腔熱血，想要進入鍍膜行業(yè)，想要學習技術，但是卻沒有了解他到底想要學習什么技術。是鍍膜工藝技術，鍍膜設備方面的技術，很多新人對此行業(yè)了解不深，把這兩者混為一談，只是這兩者是有很大區(qū)別的，尤其是剛進入行業(yè)的新人，要切記及注意。