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發(fā)布時間:2021-04-21 03:14  
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磁控濺射真空鍍膜機導(dǎo)致不均的因素哪些?專業(yè)從事這方面工作的朋友其實還是比較的了解的,它主要可以分為以下幾個因素就是:真空狀態(tài)、磁場、亞氣。
磁場是正交運作的,但你要將磁場強度做到一定均勻是不可能的,一般磁場強的地方,成膜厚度就大,相反就小,所以會造成膜層厚度的不一致,不過在生產(chǎn)過程中,由于磁場的不均勻?qū)е碌哪硬痪鶆虻那闆r卻不是常見的,為什么呢?

真空鍍膜機是蒸發(fā)鍍鋁的設(shè)備。成膜速度快,成膜性強,色澤鮮艷,不易污染。電鍍設(shè)備可獲得純度高、膜厚均勻、致密、無廢液和廢水,真空鍍膜機設(shè)備應(yīng)用廣泛,主要應(yīng)用于汽車反光網(wǎng)、工藝品、首飾、鞋帽、掛鐘、燈具、裝飾等行業(yè)。主要由真空室、排氣系統(tǒng)、蒸發(fā)系統(tǒng)和電氣設(shè)備組成。
因此,排氣系統(tǒng)不僅要在短時間內(nèi)以低壓保證快速的工作循環(huán),而且還需要快速清除氣體的蒸發(fā)源和蒸發(fā)工件的表面。蒸發(fā)系統(tǒng)包括電氣設(shè)備和加熱蒸發(fā)源。