PVD真空鍍膜設(shè)備蒸發(fā)系統(tǒng)工作方式

PVD真空鍍膜設(shè)備蒸發(fā)系統(tǒng)主要指成膜裝置部分，PVD鍍膜機(jī)的成膜裝置很多的，PVD鍍膜有電阻加熱、射頻濺射、離子鍍等多種方式。PVD鍍膜電阻蒸發(fā)根據(jù)其結(jié)構(gòu)和工作原理是目前為止應(yīng)用多的，PVD鍍膜廣泛的蒸發(fā)方式，PVD鍍膜也是應(yīng)用時(shí)間長(zhǎng)的蒸發(fā)方式。

下面介紹PVD鍍膜電阻加熱和電子槍蒸發(fā)的方式：

PVD鍍膜將鎢片做成船狀，然后安裝在兩個(gè)電極中間，再熱傳導(dǎo)給PVD鍍膜材料，當(dāng)鎢舟的熱量高于PVD鍍膜材料熔點(diǎn)的時(shí)候，材料就升華或者蒸發(fā)了，PVD鍍膜由于操作方便，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，成本低廉。PVD鍍膜電子槍蒸發(fā)是到目前為止應(yīng)用多的一種蒸發(fā)方式，PVD鍍膜可以蒸發(fā)任何一種PVD鍍膜料。

將鍍膜材料放在坩堝里面，PVD鍍膜將蒸發(fā)源制作成燈絲形狀，PVD鍍膜由于燈絲的材料是鎢，形成了一股電子束，PVD鍍膜由于電子束溫度非常高，PVD鍍膜可以熔化任何鍍膜藥材凝結(jié)下來(lái)。

至成真空十多年來(lái)專業(yè)從事各種真空鍍膜應(yīng)用設(shè)備制造，多年來(lái)致力于研發(fā)和生產(chǎn)真空鍍膜機(jī)，以新技術(shù)不斷制造出滿足市場(chǎng)需要的真空電鍍?cè)O(shè)備，為客戶提供定制化的工藝解決方案和機(jī)器。

至成鍍膜機(jī)多靶離子束濺射鍍膜機(jī)

至成鍍膜機(jī)多靶離子束濺射鍍膜機(jī)是研究超導(dǎo)、類金剛石、光學(xué)、磁性等高質(zhì)量薄膜和材料表面改性的光機(jī)一體化的現(xiàn)代化鍍膜設(shè)備。該機(jī)采用四靶、雙離子源、離子源為考夫曼源。其原理是利用具有1500ev能量的正離子束或中性粒子轟擊靶材料，使材料表面的原子和分子從母材中濺射出來(lái)，沉積在基片上成膜?？慑冎迫我獠牧?，包括金屬、合金、超導(dǎo)體、半導(dǎo)體、絕緣體等。該機(jī)采用80年代剛剛發(fā)展起來(lái)的離子束濺射技術(shù)，利用雙離子源、主槍，對(duì)靶材轟擊，輔槍在鍍前對(duì)基片進(jìn)行清洗，增強(qiáng)基片的活性，提高結(jié)合力及純度。沉積過程中低能轟擊膜，增強(qiáng)沉積原子表面擴(kuò)散和遷移，減少薄膜結(jié)晶結(jié)的缺陷，并配有對(duì)基片處理的各種功能，如加熱、冷卻、旋轉(zhuǎn)、激光處理、掩膜等。引出柵φ25mm離子能量，1500ev能量束流大于80mA。

雙色真空鍍膜機(jī)PVD技術(shù)的應(yīng)用范圍及優(yōu)缺點(diǎn)

很多人對(duì)真空鍍膜機(jī)PVD技術(shù)的了解不是特別全，也不知道具體是應(yīng)用到哪些行業(yè)，以及它在實(shí)際運(yùn)用過程有哪些優(yōu)缺點(diǎn)?至成真空小編現(xiàn)在詳細(xì)和大家介紹一下:

真空鍍膜機(jī)PVD技術(shù)其應(yīng)用范圍是：

1）碳鋼、合金鋼、不銹鋼及鈦合金等金屬材料；

2）金屬材料的表面硬度至少需要在HV170以上。

真空鍍膜機(jī)PVD技術(shù)其優(yōu)點(diǎn)是:

與傳統(tǒng)磁控濺射單色PVD技術(shù)相比，雙色PVD工藝更為復(fù)雜，流程更為繁雜，生產(chǎn)難度高，但外觀效果，兩種顏色的表面硬度都在HV600以上。傳統(tǒng)磁控濺射單色PVD技術(shù)要在實(shí)現(xiàn)雙色效果，采取的工藝措施是在整體PVD單色的基礎(chǔ)上把需要實(shí)現(xiàn)另一種顏色的區(qū)域激光鐳雕掉或者磨掉。新加工出來(lái)的區(qū)域就只能表現(xiàn)金屬的本色，表面硬度也就是金屬本身的表面硬度---HV200左右（而PVD后的表面硬度為HV600以上）。

真空電弧離子鍍膜技術(shù)

真空電弧離子鍍膜技術(shù)不僅能在金屬制品表面進(jìn)行鍍膜而且能在非金屬制品表面上進(jìn)行鍍膜；可以鍍金屬膜，氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻及鎳、鉻、銅等化合物膜、多層超硬膜、多元化合物膜，還可以鍍氮化鈦摻金膜等。電弧離子鍍膜廣泛應(yīng)用于工具、模具的超硬涂層，汽車輪轂、高爾夫球具、鐘表、酒店用品、衛(wèi)浴潔具、燈具、眼鏡鏡架、五金制品、陶瓷和玻璃等的裝飾涂層等領(lǐng)域。真空鍍膜機(jī)鍍膜技術(shù)及設(shè)備在當(dāng)今和未來(lái)都擁有十分廣闊的應(yīng)用領(lǐng)域和發(fā)展前景，特別是在制造大規(guī)模集成電路的電學(xué)膜；在數(shù)字式縱向與橫向均可磁化的數(shù)據(jù)紀(jì)錄儲(chǔ)存膜；在能充分展示和應(yīng)用各種光學(xué)特性的光學(xué)膜；在計(jì)算機(jī)顯示用的感光膜；在TFT、PDP平面顯示器上的導(dǎo)電膜和增透膜；在建筑、汽車行業(yè)上應(yīng)用的玻璃鍍膜和裝飾膜；在包裝領(lǐng)域用防護(hù)膜、阻隔膜；在裝飾材料上具有各種功能裝飾效果的功能膜；在工、模具上應(yīng)用的耐磨超硬膜：在納米材料研究方面的各種功能性薄膜等等都是真空鍍膜技術(shù)及設(shè)備在廣泛應(yīng)的基礎(chǔ)上得到的不斷發(fā)展的領(lǐng)域。