真空腔體常用的清洗方法

1、放電清洗

放電清洗一般用于高真空、超高真空腔體清洗中.放電清洗的效果取決于電機(jī)材料、幾何形狀及其與表面的關(guān)系.利用電子轟擊氣體造成解吸以及某些碳?xì)浠衔锏娜コ?

2、氮?dú)馇逑?

氮?dú)馇逑粗饕抢昧说獨(dú)庠诓牧媳砻娴奈綗嵝?、吸留時(shí)間短,容易被抽走的特性,用氮?dú)鉀_洗被污染的真空系統(tǒng),同時(shí)擠占水氣等其他氣體分子的粘附空間,縮短真空系統(tǒng)的抽氣時(shí)間.

影響真空絕緣水平的主要因素

電極資料

真空開關(guān)作業(yè)在10-2Pa以上的高真空，因?yàn)榇丝虤怏w分子十分稀疏，氣體分子的碰撞游離對(duì)擊穿已經(jīng)不起效果，因而擊穿電壓表現(xiàn)出和電極資料有較強(qiáng)的相關(guān)性。

真空空隙的擊穿電壓跟著電極資料的不同而不同，研究者發(fā)現(xiàn)擊穿電壓和資料的硬度與機(jī)械強(qiáng)度有關(guān)。一般來(lái)說(shuō)，硬度和機(jī)械強(qiáng)度較高的資料，往往有較高的絕緣強(qiáng)度。比如，鋼電極在淬火后硬度進(jìn)步，其擊穿電壓較淬火前可進(jìn)步80%。

此外，擊穿電壓還和陰極資料的物理常數(shù)如熔點(diǎn)、比熱和密度等正相關(guān)，即熔點(diǎn)較高的資料其擊穿電壓也較高。比照熱和密度而言亦然。這一問題的實(shí)質(zhì)是在相同熱能的效果下，資料發(fā)作熔化的概率越大，則擊穿電壓越低。

半導(dǎo)體真空腔體制造技術(shù) 

真空腔體在薄膜涂層、微電子、光學(xué)器件和材料制造中，是一種能適應(yīng)高真空環(huán)境的特殊容器。真空腔體通常包括一系列部品——如鐘形罩、基板、傳動(dòng)軸以及輔助井——這些構(gòu)成一個(gè)完整的真空腔體。

復(fù)雜的真空腔體通常需要定制，即針對(duì)應(yīng)用終端進(jìn)行專門的設(shè)計(jì)和制作。某些常見的真空腔體已經(jīng)過(guò)預(yù)先設(shè)計(jì)，如手套箱、焊接室、脫氣箱、表面分析真空腔等。例如脫氣箱和手套箱一般采用低真空環(huán)境，可用于焊接，或用于塑料制品、復(fù)合材料層壓板、封裝組件等的脫氣。即真空并不是無(wú)物而是有實(shí)物粒子和虛粒子轉(zhuǎn)化的,但整體對(duì)外是不顯示物理屬性的宏觀總體。

真空設(shè)備包含很多組件，如真空腔體，真空密封傳導(dǎo)件，視口設(shè)置，真空傳感器，真空顯示表，沉積系統(tǒng)，蒸發(fā)源和蒸發(fā)材料，濺鍍靶材，等離子刻蝕設(shè)備，離子注入設(shè)備，真空爐，專用真空泵，法蘭，閥門和管件等。真空設(shè)備常用于脫氣，焊接，制備薄膜涂層，生產(chǎn)半導(dǎo)體/晶圓、光學(xué)器件以及特殊材料等。真空腔體一般真空腔體內(nèi)部是規(guī)則的長(zhǎng)方體,用一面加熱進(jìn)行熱輻射的方式熱傳導(dǎo)不能合理涵蓋整個(gè)腔體的內(nèi)部空間,所以效果不是很理想,。