公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

掩膜（MASK）：全稱單片機(jī)掩膜，是指程序數(shù)據(jù)已經(jīng)做成光刻版，在單片機(jī)生產(chǎn)的過程中把程序做進(jìn)去。優(yōu)點(diǎn)是：程序可靠、成本低。缺點(diǎn)：批量要求大，每次修改程序就需要重新做光刻板，不同程序不能同時(shí)生產(chǎn)，供貨周期長。

制版（platemaking）是將原稿成印版的統(tǒng)稱。③結(jié)構(gòu)特征提取,用相似性變量或圖像匹配方法檢測和提取圖像中與掩模相似的結(jié)構(gòu)特征。有將鉛活字排成活字版，以及用活字版打成紙型現(xiàn)澆鑄成凸版和將圖像經(jīng)照像或電子分色獲得底片，用底片曬制凸版、平版、凹版等一系列的制版方法。在制版中影響印版質(zhì)量的因素，主要有顯影液濃度、顯影溫度和顯影時(shí)間以及顯影液的循環(huán)攪拌情況、顯影液的疲勞程度等。

制版（platemaking）是將原稿成印版的統(tǒng)稱。作為半導(dǎo)體、液晶顯示器制造過程中轉(zhuǎn)移電路圖形“底片”的高精密工具，光掩膜是半導(dǎo)體制程中非常關(guān)鍵的一環(huán)。有將鉛活字排成活字版，以及用活字版打成紙型現(xiàn)澆鑄成凸版和將圖像經(jīng)照像或電子分色獲得底片，用底片曬制凸版、平版、凹版等一系列的制版方法。在制版中影響印版質(zhì)量的因素，主要有顯影液濃度、顯影溫度和顯影時(shí)間以及顯影液的循環(huán)攪拌情況、顯影液的疲勞程度等。

PS版的顯影時(shí)間主要由PS版的種類、曝光時(shí)間及顯影液的濃度、顯影溫度等條件來確定。當(dāng)上述條件確定制版機(jī)后，PS版的顯影程度與顯影時(shí)間成正比關(guān)系，即顯影時(shí)間越長，顯影越徹底。但顯影時(shí)間過長會產(chǎn)生網(wǎng)點(diǎn)縮小等現(xiàn)象。

光致抗蝕劑也被稱為光致抗蝕劑。掩模板上的圖案被轉(zhuǎn)移到晶片表面頂層的光致抗蝕劑上，并且在后續(xù)工藝中保護(hù)下面的材料(蝕刻或離子注入)。光致抗蝕劑由光敏樹脂、光引發(fā)劑、添加劑、溶劑等組成。其中，光敏樹脂是光刻膠的關(guān)鍵成分。