脈沖激光沉積的優(yōu)點

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1. 易獲得期望化學計量比的多組分薄膜，即具有良好的保成分性；

2. 沉積速率高，試驗周期短，襯底溫度要求低，制備的薄膜均勻；

3. 工藝參數(shù)任意調(diào)節(jié)，對靶材的種類沒有限制；

4. 發(fā)展?jié)摿薮?，具有極大的兼容性；

5. 便于清潔處理，可以制備多種薄膜材料。

脈沖激光沉積設(shè)備介紹

以下是沈陽鵬程真空技術(shù)有限責任公司為您一起分享的內(nèi)容，沈陽鵬程真空技術(shù)有限責任公司專業(yè)生產(chǎn)脈沖激光沉積，歡迎新老客戶蒞臨。

是比較理想的薄膜與涂層合成設(shè)備。可制備的薄膜包括氮化物、氧化物、多層膜、鉆石、石墨烯、碳納米管、2D材料。Blue Wave還提供相關(guān)系統(tǒng)配件，例如基片加熱裝置、原位監(jiān)測工具。系統(tǒng)組成:主要由濺射真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。此外，BlueWave還為您提供標準的薄膜以及材料涂層，例如氧化物涂層、導(dǎo)電薄膜、無定型或納米晶Si/SiC、晶體AlN-GaN、聚合物、納米鉆石、HFCVD鉆石涂層以及器件加工。