PVD鍍膜可以鍍出以下幾種膜層

　　聚涂層技術(shù)是一種環(huán)保的表面處理方法，可以真正獲得微米級(jí)涂層，無污染。它可以制備各種單一金屬膜(如鋁、鈦、鋯、鉻等。)、氮化物膜(TiN[鈦]、ZrN[鋯金]、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN)和氧化物膜(如TiO)。

PVD鍍膜層的厚度

　　聚涂層的厚度為微米級(jí)，較薄，一般為0.1μm~5μm，其中裝飾涂層的厚度一般為0.1μm~1μm，可以在幾乎不影響工件原有尺寸的情況下提高工件表面的各種物理化學(xué)性能，保持工件尺寸基本不變，鍍后無需再加工。

簡(jiǎn)短說說PVD真空鍍膜前后左右有哪些不一樣的地區(qū)：

   1.產(chǎn)品歷經(jīng)鍍膜后，會(huì)在產(chǎn)品表面產(chǎn)生一種防護(hù)膜，能夠 合理抵御浸蝕，更為耐磨損，提高產(chǎn)品品質(zhì)。

   2.鍍膜可以更改產(chǎn)品外型，可依據(jù)不一樣產(chǎn)品顧客人群電鍍的工藝不一樣顏色外型，考慮消費(fèi)市場(chǎng)，如五金真空鍍膜18k金。

   3.鍍膜的膜層就越好，保色時(shí)間越長，像英利悅的真空泵厚金電鍍的工藝，保色時(shí)間可做到1-三年。

   4.鍍膜后由于品質(zhì)及其使用期的增加，能為產(chǎn)品產(chǎn)生額外使用價(jià)值提高，有益于提升產(chǎn)品經(jīng)濟(jì)效益。

真空鍍膜是什么？為什么要進(jìn)行真空鍍膜？真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)突破性技術(shù)，利用物理或者化學(xué)方法并吸收一系列新技術(shù)而成的工藝，目的就是為了在實(shí)際生產(chǎn)中為產(chǎn)品創(chuàng)造薄膜保護(hù)層。工藝主要分為真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離子鍍?nèi)N。為什么需要進(jìn)行真空鍍膜呢？這項(xiàng)工藝已經(jīng)成為了電子元器件制造中的一項(xiàng)不可或缺的技術(shù)，主要是為了使產(chǎn)品表面具有耐磨損耐高溫，耐腐蝕等優(yōu)于產(chǎn)品本身的性能，從而提高產(chǎn)品的質(zhì)量，延長加工產(chǎn)品的使用壽命，不僅如此，還可以節(jié)約能源，獲得更為顯著的技術(shù)經(jīng)濟(jì)效益。

請(qǐng)問PVD能在鍍?cè)谑裁椿纳?？PVD膜層能直接鍍?cè)诓讳P鋼以及硬質(zhì)合金上，對(duì)鋅合金、銅、鐵等壓鑄件應(yīng)先進(jìn)行化學(xué)電鍍鉻，然后才適合鍍PVD。

請(qǐng)問采用PVD鍍膜技術(shù)鍍出的膜層有什么特點(diǎn)？采用PVD鍍膜技術(shù)鍍出的膜層，具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系數(shù))、很好的耐腐蝕性和化學(xué)穩(wěn)定性等特點(diǎn)，膜層的壽命更長;同時(shí)膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。