氦質譜檢漏儀的應用

（1）電子行業(yè)，微波發(fā)射管、電子管、晶體管、集成電路、密封繼電器、各類傳感器、心臟起博器。

（2）真空行業(yè)，儀器、儀表行業(yè)，管道、接頭、閥門、波紋管、各種真空泵、各類排氣機組、電鏡、質譜儀、電子束離子速暴光機、激光軸分離器、鍍膜機、薄膜真空計。

（3）核工業(yè)，鈾分離裝置、存儲裝置、核發(fā)電裝置。

（4）制冷行業(yè)，冰箱、空調、汽車用空調、蒸發(fā)器、冷凝器、壓縮機、低溫儲槽。

（5）不銹鋼保溫器皿，真空保溫杯、瓶、鍋、飯盒等。

（6）核工業(yè)、航空工業(yè)、航天工業(yè)、船舶工業(yè)、軍事電子六大類。

氦質譜檢漏儀的特點

氦質譜檢漏儀實際上可以說是一個檢氦儀，通過檢測氦氣的含量來確定是否有泄漏。而對氦的檢測則使用的是質譜儀，是只檢測氦的質譜儀，這種質譜儀將其它質量數的氣體都屏蔽掉了。氦質譜檢漏儀要想正常工作，需要真空環(huán)境。至少要在10-3mbar以下，空氣的流動才體現(xiàn)為分子流，氦質譜檢漏儀才能穩(wěn)定正常工作。

氦質譜檢漏儀的注意事項

氦質譜檢漏儀的響應時間會影響檢漏工作的速度，正常運行的儀器響應時間不大于3s。筆者實測時，在漏點處噴射氦氣5～10s后，氦質譜檢漏儀就發(fā)生響應，對于如此龐大的真空系統(tǒng)，其反應是相當的靈敏。

檢漏時噴槍在漏孔處停留的時間應為儀器響應時間的3倍，該時間再加上氦氣在真空系統(tǒng)中的傳遞時間，即為兩次噴氦的較小間隔時間，當然真空系統(tǒng)越龐大，該間隔時間也越長。筆者根據實測經驗，兩次噴氦的較小間隔時間控制在30s左右，即如果次噴氦后30s內氦質譜檢漏儀還沒有反應,則可進行第二次噴氦。

清除時間在理論上與響應時間相同，但由于儀器零件對氦的吸附和脫附作用的影響,清除時間一般要更長些。筆者測算，在測試到數量級為10-9P a ?m3/s的微漏漏點時，清除時間約須1分鐘；在測試到數量級為10-8P a ? m3/s的中漏漏點時，清除時間約須2分鐘；在測試到數量級為10-7Pa?m3/s的大漏漏點時，清除時間在3分鐘左右。