高純/特種氣體的概念

半導體集成電路制造所需要的高純氣體主要分為兩大類：

1.普通氣體：也叫大宗氣體，主要有：H2 、N2 、O2 、Ar 、He等。

2.特種氣體：主要指各種摻雜用氣體、外延用氣體、離子注入用氣體、刻蝕用氣體等。

半導體制造用氣體按照使用時的危險性分類：

1.可燃、助燃、易然易暴氣體：H2 、CH4、H2S、NH3 、SiH4、PH3 、B2H6、SiH2CL3、CLF3、SiHCL3等

2.有毒氣體：AsH3、PH3 、B2H6等

3.助燃氣體：O2 、N2O、F2 、HF等

4.窒息性氣體：N2 、He 、CO2、Ar等

5.腐蝕性氣體：HCL 、PCL3 、POCL3 、HF、SiF4、CLF3等

同一場所多種易然易暴氣體存在如何檢測？

在銷售過程中經常會遇到客戶問：我的場所存在多種可燃氣體，是不是我每一種氣體安裝一臺類型的探測器？還是安裝幾臺等等問題，今強源氣體小編就給大家聊聊這個問題。

如果現場都是易然易暴氣體，那么每一種都設置一臺報警器也不現實，更重要的是可燃氣體用的是一種傳感器檢測，也就是催化燃燒類型的，如果不同氣體都按照對應來設置的話，現場會有非常大的干擾，比如甲烷，液化氣，丙烷，酯類等等易然易暴氣體，現場安裝的話設置一種即可，怎么設置呢？我們要查看每一種氣體的爆i炸極限值，取氣體蕞低的那個爆i炸極限值來設置報警器，也就是說我們只檢測那種氣體蕞容易與空氣結合發(fā)生爆i炸，我們就針對這樣的氣體來防護即可。那么其他的氣體爆i炸極限值稍微高一些，暫時都是安全的。

氬氣的提純技術

高純氣的分析檢測，需要標準氣體。根據GB/T10642高純氣國家標準，高純氣分為3個等級，其控制成分要求較地低，通常大空分分餾出來的液態(tài)Ar質量很好，但在配制標氣時，由于氣瓶殘余氣體及系統的漏氣，導致此類標準氣體配制難度較大，經常出現其中的氮氣指標超標，為了配制一瓶合格的標準氣體時常重復多次。這樣一來不但配制氣體麻煩，而且也給分析增加許多的工作量，在實驗室為配好此氣，曾反復3次之多。氣的凈化除采用精餾的方法外，對充瓶后的多采用終端提純的手段，國外如意大利賽斯等公司都有超純氣提純設備，經過提純后氣的純度達到6N以上，吸氣劑可以同氣中的幾乎所有的雜質反應，反應的程度取決于雜質的種類及反應溫度，N2是比較難除的雜質，其它如O2、CO2、H2O雜質可通過其它的常規(guī)方法除凈，為了節(jié)省價格不菲的吸氣劑，在提純設備流程設計時，應考慮氣體的初級凈化，由于吸氣劑的激化溫度高達500℃以上，又是在高壓下工作，所以所用設備的安全問題，是必須要高度的重視，吸氣劑由于參加了化學反應，在使用時不斷的消耗，其吸氣能力隨著床層的降低而不斷下降，當發(fā)現Ar的純度下降，應考慮是否需要更換吸氣劑。在Ar提純時可采用國產的吸氣劑，成本可降低較多。