對(duì)于高拋光粉來講，氧化的品位越高，拋光能力越大，使用壽命也增加，特別是硬質(zhì)玻璃長(zhǎng)時(shí)間循環(huán)拋光時(shí)（石英、光學(xué)鏡頭等），以使用高品位的拋光粉為宜。低拋光粉一般含有50%左右的CeO2,其余50%為L(zhǎng)a2O3?SO3,Nd2O3?SO3,Pr6O11?SO3等堿性鹽或LaOF、NdOF、PrOF等堿性氟化物，此類拋光粉特點(diǎn)是成本低及初始拋光能力與高拋光粉比幾乎沒有兩樣，因而廣泛用于平板玻璃、顯像管玻璃、眼鏡片等的玻璃拋光，但使用壽命難免要比高拋光粉低。






此外，稀土拋光粉也可以根據(jù)其添加劑的不同種類來劃分，稀土拋光粉生產(chǎn)技術(shù)屬于微粉工程技術(shù)，稀土拋光粉屬于超細(xì)粉體，國(guó)際上一般將超細(xì)粉體分3種：納米級(jí)（1nm~100nm）；亞微米級(jí)（100nm~1μm）；微米級(jí)（1μm~100μm），據(jù)此分類方法，稀土拋光粉可以分為：納米級(jí)稀土拋光粉、亞微米級(jí)稀土拋光粉及微米級(jí)稀土拋光粉3類，通常我們使用的稀土拋光粉一般為微米級(jí)，其粒度分布在1μm~10μm之間，稀土拋光粉根據(jù)其物理化學(xué)性質(zhì)一般使用在玻璃拋光的后工序，進(jìn)行精磨

以上原料中除種外，第2,3,4種均含輕稀土（w（REO）≈98%），且以CeO2為主，w（CeO2）為48%~50%.我國(guó)具有豐富的資源，據(jù)測(cè)算，其工業(yè)儲(chǔ)量約為1800萬噸（以CeO2計(jì)），這為今后我國(guó)持續(xù)發(fā)展稀土拋光粉奠定了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)，也是我國(guó)獨(dú)有的一大優(yōu)勢(shì)，并可促進(jìn)我國(guó)稀土工業(yè)繼續(xù)高速發(fā)展。

　　1.4主要生產(chǎn)工藝及設(shè)備

　　1.4.1高系稀土拋光粉的生產(chǎn)

　　以稀土混合物分離后的氧化為原料，以物理化學(xué)方法加工成硬度大，粒度均勻、細(xì)小，呈面心立方晶體的粉末產(chǎn)品。其主要工藝過程為：原料→高溫→煅燒→水淬→水力分級(jí)→過濾→烘干→系稀土拋光粉產(chǎn)品。

在稀土拋光粉的消費(fèi)中，日本是消費(fèi)者，每年約生產(chǎn)3550噸~4000噸拋光粉，產(chǎn)值35億~40億日元，還從法國(guó)、美國(guó)和中國(guó)進(jìn)口部分拋光粉。其中拋光粉消費(fèi)市場(chǎng)是彩電陰極射線管。二十世紀(jì)90年代中期，日本陰極射線管的生產(chǎn)轉(zhuǎn)向海外，而平面顯示產(chǎn)品產(chǎn)量迅速增加，對(duì)基拋光粉的需求量也迅速增加。估計(jì)日本在液晶顯示用平面顯示器生產(chǎn)上消費(fèi)的拋光粉約占其市場(chǎng)的50%.90年代以來，日本將其陰極射線管用拋光粉的生產(chǎn)技術(shù)和設(shè)備向海外轉(zhuǎn)移，如：日本清美化學(xué)從1989年開始在海外生產(chǎn)陰極射線管用基拋光粉。