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發(fā)布時間:2020-12-21 04:03  
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磁控濺射真空鍍膜機運作就是通過真空狀態(tài)下正交磁場是電子轟擊亞氣形成的亞離子再轟擊靶材,靶材離子沉積于工件表面成膜。
真空狀態(tài)就需要抽氣系統(tǒng)來進行控制,每個抽氣口都要同時開動并力度一致,這樣就能控制好抽氣的均勻性,如果抽氣不均勻,在真空室內(nèi)的壓強就不能均勻了,壓強對離子的運動是存在一定的影響的。另外抽氣的時間也要控制,太短會造成真空度不夠,但太長又浪費資源,不過有真空計的存在,要控制好還是不成問題的。

隨著鍍膜技術(shù)的快速增長,各種類型的真空鍍膜機也開始逐漸出現(xiàn)。但是論起薄膜的均勻性,恐怕所有的真空設(shè)備鍍制的薄膜的均勻性都會受到某種因素影響,現(xiàn)在我們就濺控濺射鍍膜機來看看造成不均勻的因素有哪些。
對此,真空鍍膜機廠家指出,它的運作原理其實很簡單。就是通過真空狀態(tài)下正交磁場使電子轟擊亞氣形成的亞離子再轟擊靶材,靶材離子沉積于工件表面成膜。
一般真空電鍍的做法是在素材上先噴一層底漆,再做電鍍.由于素材是塑料件,在注塑時會殘留空氣泡,有機氣體,而在放置時會吸入空氣中的水分.另外,由于塑料表面不夠平整,直接電鍍的工件表面不光滑,光澤低,金屬感差,并且會出現(xiàn)氣泡,水泡等不良狀況。在對塑料制品實施蒸鍍時,為了確保金屬冷卻時所散發(fā)出的熱量不使樹脂變形,必須對蒸鍍時間進行調(diào)整。此外,熔點、沸點太高的金屬或合金不適合于蒸鍍。