NR77-25000PNR7 6000PY光刻膠價(jià)格

NR77-20000PYNR7 6000PY光刻膠價(jià)格

光刻膠存儲(chǔ)條件及操作防護(hù)

光刻膠是一種可燃液體，儲(chǔ)存條件應(yīng)符合對(duì)應(yīng)的法規(guī)，不要與強(qiáng)氧化劑混合，存放在通風(fēng)良好的地方，保持容器密閉，避免吸入蒸汽或霧氣，避免接觸眼睛、皮膚或衣服，操作后徹底清洗。

個(gè)人防護(hù)

眼睛：佩戴化學(xué)飛濺護(hù)目鏡。

皮膚：戴上適當(dāng)?shù)姆雷o(hù)手套防止皮膚暴露。

服裝：穿戴合適的防護(hù)服防止皮膚暴露。

呼吸器：無(wú)論何時(shí)在工作環(huán)境下呼吸保護(hù)必須遵循中國(guó)職業(yè)安全健康管理局標(biāo)準(zhǔn)的規(guī)定和ANSI美國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)學(xué)會(huì)Z88.2的相關(guān)要求，或必須執(zhí)行歐洲呼吸防護(hù)EN 149的標(biāo)準(zhǔn)。

NR9-1000py

問(wèn)題回饋：

1．我們是LED制造商，麻煩推薦幾款可以用于離子蝕刻和Lift-off工藝的光刻膠。

A 據(jù)我所知，F(xiàn)uturrex

有幾款膠很，NR7-1500P

NR7-3000P是專門(mén)為離子蝕刻

設(shè)計(jì)的，NR9-3000PY可以用于Lift-off上的應(yīng)用。

2．請(qǐng)問(wèn)有沒(méi)有可以替代goodpr1518，Micropure去膠液和goodpr顯影液的產(chǎn)品？

A 美國(guó)光刻膠，F(xiàn)uturrex

正膠PR1-2000A

, 去膠液RR4，和顯影液RD6可以解決以上問(wèn)題。

3．你們是否有可以替代Shipley

S1805的用于DVD的應(yīng)用產(chǎn)品？

A 我們建議使用Futurrex

PR1-500A , 它有幾個(gè)優(yōu)點(diǎn)：比較好的解析度，比較好的線寬控制，

反射比較少，不需要HMDS，RIE后去除容易等~

4． 求助，耐高溫的光阻是那一種？

A Futurrex, NR7 serious(負(fù)光阻)Orpr1 serious(正光阻)，再經(jīng)過(guò)HMCTS

silyiation process,可以達(dá)到耐高溫200度，PSPI透明polyimide,可耐高溫250度以上。

5．厚膜光阻在鍍金應(yīng)用上，用哪一種比較理想？

A Futurrex , NR4-8000P比干膜，和其他市面上的濕膜更加適合，和理想。

6．請(qǐng)教LIFT-OFF制程哪一種光阻適合？

A 可以考慮使用Futurrex

，正型光阻PR1，負(fù)型光阻用NR1&NR7,它們都可以耐高溫180度，完全可以取代一般制作PATTERN的光阻。

7．請(qǐng)問(wèn)，那位專家知道，RIE

Mask,用什么光阻比較好？

A 正型光阻用PR1系列，負(fù)型光阻使用NR5，兩種都可以耐高溫180度。

8．一般厚膜制程中，哪一種光阻適合？

A NR9-8000P有很高的深寬比（超過(guò)4：1），一般厚膜以及，MEMS產(chǎn)品的高需求。

9．在DEEP

RIE和MASK 可以使用NRP9-8000P嗎？

A 建議不使用，因?yàn)槭褂肗R5-8000更加理想和適合。

10．我們是OLED，我們有一種制程上需要一層SPACER，那種光阻適合？

A 有一種膠很適合，美國(guó)Futurrex

生產(chǎn)的NR1-3000PY

and和

NR1-6000PY,都適合在OLED制程中做spacers

美國(guó)Futurre光刻膠

30．想請(qǐng)教國(guó)產(chǎn)光刻膠不能達(dá)到膜厚要求，進(jìn)口的有沒(méi)有比較好的光刻膠啊？

都可以啊！goodpr是大陸比較多公司采用的，

但是Futurre 光刻膠在國(guó)外是比較有名氣的，包括很多大型企業(yè)都有用，膜厚做的也

比較厚從18um-200um都 可以做到，看你對(duì)工藝的要求了。

光刻膠品牌FUTURRE光刻膠產(chǎn)品屬性：

1  FUTURRE光刻膠產(chǎn)品簡(jiǎn)要描述及優(yōu)勢(shì):

1.1   Futurre光刻膠黏附性好，無(wú)需使用增粘劑（HMDS）

1.2  負(fù)性光刻膠常溫下可保存3年

1.3  150度烘烤，縮短了烘烤時(shí)間

1.4  單次旋涂能夠達(dá)到100um膜厚

1.5  顯影速率快，100微米的膜厚，僅需6~8分鐘