由于氧化鋯(YSZ)材料具有高硬度，高強度，高韌性，極高的耐磨性及耐化學(xué)腐蝕性等等優(yōu)良的物化性能，氧化鋯已經(jīng)在陶瓷、耐火材料、機械、電子、光學(xué)、航空航天、生物、化學(xué)等等各種領(lǐng)域獲得廣泛的應(yīng)用。氧化鋯存在三種穩(wěn)定度同素異晶體：單斜相，立方相和四方相。純氧化鋯的單斜相從室溫到1170℃是穩(wěn)定的，超過這一溫度轉(zhuǎn)變?yōu)樗姆较啵缓笤?370℃轉(zhuǎn)變?yōu)榱⒎较?，直?680℃發(fā)生融化。

常溫下保持立方相的氧化鋯晶體，具有硬度高(莫氏硬度8~8.5)，折射率高(于6830?處，n≈2.149)，色散性強(~0.056)和化學(xué)穩(wěn)定性好等特性。氧化鋯(YSZ)單晶陶瓷材料因其高強度、高硬度、耐腐蝕、耐高溫而被認(rèn)為是具有廣泛應(yīng)用前景的新型陶瓷。它作為一種重要的快離子導(dǎo)體，在氧傳感器、氧泵浦、固體氧化物燃料電池已得到廣泛應(yīng)用和研究。

從光學(xué)應(yīng)用的角度來講，單晶氧化鋯(YSZ)因其折射率高、色散大、物化性能穩(wěn)定，常被用作高溫光學(xué)元件，以及在光學(xué)設(shè)備中作為激光基質(zhì)晶體。氧化鋯(YSZ)單晶基片是zui早應(yīng)用于高溫超導(dǎo)薄膜的材料之一。常溫下保持立方相的氧化鋯晶體，具有硬度高(莫氏硬度8~8.5)，折射率高(于6830?處，n≈2.149)，色散性強(~0.056)和化學(xué)穩(wěn)定性好等特性。