無論是對于CO2激光，采用銅、鉬、硅、鍺等來制作反射鏡，采用鍺、硒化鋅作為輸出窗口和透射光學元件材料，還是對于YAG激光采用普通光學玻璃作為反射鏡、輸出鏡和透射光學元件材料，都不能達到全反射鏡的99%以上要求。不同應用時輸出鏡有不同透過率的要求，因此必須采用光學鍍膜方法。對于CO2激光燈中紅外線波段，常用的鍍膜材料有氟化釔、氟化鐠、鍺等;對于YAG激光燈近紅外波段或可見光波段，常用的鍍膜材料有硫化鋅、氟化鎂、二氧化鈦、氧化鋯等。除了高反膜、增透膜之外，還可以鍍對某波長增反射、對另一波長增透射的特殊膜，如激光倍頻技術中的分光膜等。影響一面平面透鏡的透光度有許多成因。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

一、鍍膜室極限壓力的測定1、試驗條件：（1）鍍膜室內沒有安放基材（空載狀態(tài)）；（2）用來測量的真空計應和設備本身是配套的，且為有效期之內；（3）在抽氣過程中，對鍍膜室用設備配套的加熱轟擊裝置進行除氣；（4）真空測量規(guī)管應裝于鍍膜室壁上或zui靠近鍍膜室的管道上；（5）對具有中擱板、上卷繞室和鍍膜室的卷繞鍍膜設備，應在兩室同時抽氣時對鍍膜室的壓力進行測試。2、測試方法：連續(xù)對鍍膜室抽氣24h這一時間段之間，測定出過程中的壓力zui低值，則定為該設備的極限壓力。如果壓力變化值在0.5h內沒有超過5％的波動，則取zui高測量表讀數(shù)值作為極限壓力值。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

真空鍍膜室壁上單分子層所吸附的分子數(shù)Ns與氣相中分子數(shù)N的比值近似值。通常在常用的高真空系統(tǒng)中，其內表面上所吸附的單層分子數(shù)，遠遠超過氣相中的分子數(shù)。因此，除了蒸發(fā)源在蒸鍍過程中所釋放的氣體外，在密封和抽氣系統(tǒng)性能均良好和清潔的真空系統(tǒng)中，若氣壓處于10-4Pa時，從真空室壁表面上解吸出來的氣體分子就是真空系統(tǒng)內的主要氣體來源。真空下室壁單分子層所吸附的分子數(shù)與氣相分子數(shù)之比分子數(shù)與氣相分子數(shù)A-鍍膜室的內表面積，cm2;V-鍍膜室的容積，cm3;ns-單分子層內吸附分子數(shù)，個/cm2;n-氣相分子數(shù)，個/cm3 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制