設備選型編輯1、按處理水量選型，一般水處理器管徑應與用水管徑相等，如不符應選大一檔設備。2、本設備處理水硬度為<800mg/L(以CoCO3計)；特殊要求可訂做。3、本產品禁止在蒸汽鍋爐或管架式鍋爐上使用。4、L型電子水處理器可以水平安裝，也可以垂直安裝或傾斜安裝，不需注意進出水口方向。5、防垢率：>98%，除垢率>98%，殺菌滅藻率>97%，管道銹蝕速度減少>95%。6、使用壽命：10年以上。




電子水處理在晶體管、集成電路生產中，純水主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制，硅片氧化的水汽源，部分設備的冷卻水，配制電鍍液等。集成電路生產過程中的80%的工序需要使用高純水清洗硅片，水質的好壞與集成電路的產品質量及生產成品率關系很大。水中的堿金屬(K、Na等)會使絕緣膜耐壓不良，重金屬(Au、Ag、Cu等)會使PN結耐壓降低，Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)會使N型半導體特性惡化，Ⅴ族元素(P、As、Sb等)會使P型半導體特性惡化，水中細菌高溫碳化后的磷(約占灰分的20-50%)會使P型硅片上的局部區(qū)域變?yōu)镹型硅而導致器件性能變壞，水中的顆粒(包括細菌)如吸附在硅片表面，就會引起電路短路或特性變差。




當原水的含鹽量大于400mg/L時，純水制造的除鹽工序采用RO-離子交換工藝后，比早先單用離子交換可節(jié)約酸、堿約90%左右，使離子交換柱的周期產水量提高10倍左右，事實證明，可以降低純水制造的運行費用和制水成本，可以減少工人的勞動強度，可以減少對環(huán)境的污染，并可使純水水質得到提高并長期穩(wěn)定。據統計，在我國電子工業(yè)引進的純水制造系統中，有RO的約占系統總數的90%，有UF的約占20%，有MF的幾乎為100%，而ED在我國國產的純水系統特別是早期投產的純水系統，以及為數眾多的對純水水質要求不高的一般電子元器件(如電阻、電容、黑白顯像管、電子管等)制造廠的純水系統中占有相當的比例。