光刻技術，重頭戲是物理技術，光刻的前道工序如涂膠，后道如顯影，都是化學技術，對機器要求不算高。唯獨曝光工序才是難的，其中難又在于光刻機，也就是一只巨型單反相機，其光源和鏡頭，還有控制技術估計已經是人類的極限了，巨難做。刻蝕說得形象點就是沿著曝光圖形刻槽，化學成分比較大，并不算十分關鍵的設備，我朝的刻蝕機技術還是很不錯的。

濟南藍光同茂廣告標牌設備公司

公司的全自動環(huán)保蝕刻機成功應用于濟南重汽,特變電工, 濟南泉城廣場,山東大學,山東農業(yè)大學,電力集團等。設備銷往世界各地：迪拜、泰國、越南、印尼、新加坡、西班牙等，公司主營：蝕刻機,標牌機,腐蝕機,大型熱轉印機,立體玻雕機、印刷設備等全系列新型數控標識設備、技術開發(fā)、專業(yè)培訓，是數碼標識配套設備供應商，公司產品連續(xù)多年榮獲山東消費者滿意單位稱號。

這倆機器的解釋就是光刻機把電路圖投影到覆蓋有光刻膠的硅片上面,刻蝕機再把剛才畫了電路圖的硅片上的多余電路圖腐蝕掉,這樣看起來似乎沒什么難的,但是有一個形象的比喻,每一塊芯片上面的電路結構放大無數倍來看比整個北京都復雜,這就是這光刻和蝕刻的難度

激光蝕刻機

相對于傳統(tǒng)的濕法蝕刻，激光蝕刻不直接接觸材料表面、CAD圖紙直寫，無須掩模，因此可靠性更強，良率更高，一致性更好，蝕刻線寬大小可調，圖形任意，該技術已經廣泛應用于觸摸屏，LCD，PDP，電子書，OLED等工業(yè)生產。而在其他應用領域，尤其是一些更高要求的多層次材料的選擇性蝕刻，是其他傳統(tǒng)方法無法做到的。