化學(xué)沉鎳報(bào)價(jià)鍍多層鎳是在同一基體上，選用不同的鍍液成分及工藝條件，獲得二層、三層和四層鍍鎳層，主要是利用不同鎳層電位差來達(dá)到電化學(xué)保護(hù)的目的，以改善防護(hù)裝飾性鍍層體系并在不增加鎳層厚度或減低鎳層厚度的基礎(chǔ)上，增加鎳層的耐蝕能力(在鎳層的外層都要鍍一層鉻)。目前在生產(chǎn)上應(yīng)用較多的多層鎳／鉻組合層體系有：

雙層鎳半光亮鎳／光亮鎳／鉻

三層鎳半光亮鎳／高硫鎳／光亮鎳／鉻

半光亮鎳／光亮鎳／鎳封／鉻(微孔鉻)

半光亮鎳／光亮鎳／高應(yīng)力鎳／鉻(微裂紋鉻)

四層鎳半光亮鎳／高硫鎳／亮鎳／鎳封／鉻

三層鎳　　

其組合有好幾種，常用的是半光亮鎳/高硫鎳/光亮鎳。其中高硫鎳的鍍層厚度只在1μm左右，其電位負(fù)，在發(fā)生電化學(xué)腐蝕時(shí)，作為犧牲層起到保護(hù)其他鍍層和基體的作用。

三層鎳的工藝流程如下：

化學(xué)除油、除銹--陰極電解除油--陽極電解除油--水洗兩次--活化--鍍半光亮鎳--鍍高硫鎳--鍍光亮鎳--回收--水洗--鍍裝飾鉻或其他功能性鍍層

光亮鍍鎳液液的PH值應(yīng)該控制在怎樣的范圍內(nèi)為好?如何控制?

光亮鍍鎳的溶液呈弱酸性，陰極電流效率小于l00%，因此在電鍍過程中，陰極上除了鎳的沉積外，還有少量的氫氣析出，氫氣的析出影響到溶液的氫離子濃度，而pH值的控制范圍對鍍層質(zhì)量是至關(guān)重要的一個(gè)參數(shù)。

在各種光亮鍍鎳的配方中，隨著主鹽含量的不同，相應(yīng)鍍液的pH值控制范圍應(yīng)當(dāng)也不一樣。

其一般規(guī)律為：硫l酸鎳含量高時(shí)，pH值允許偏低;硫l酸鎳含量低時(shí)，pH值應(yīng)偏高。pH值總的變化范圍應(yīng)控制在3.8～5.5為宜，如果pH值過低，陰極電流效率降低，鍍層脆性大，甚至得不到鍍層，只有氫氣的析出;反之，pH值過高，溶液渾濁，沉積出來的鍍層發(fā)霧，有毛刺，有嚴(yán)重脆性。