真空鍍膜技術在光學儀器中的應用

人們熟悉的光學儀器有望遠鏡、顯微鏡、照相機、測距儀、以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等。它們都離不開鍍膜技術，鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。

一般光學儀器中的光學系統(tǒng)都由多個透鏡組成，光線要經(jīng)玻璃界面，會有相當多的光線被反射掉，透過的光線很少，影響光學儀器的光學效果。為了減少反射損耗，增大光線的透過率，往往在玻璃表面沉積增透膜來提高光的透過率。反射膜與增透膜相反，反射膜要求把入射光大部分或幾乎全部反射回去。例如：光學儀器、激光器、波導管、汽車和燈具的反射鏡都需要鍍反射膜。反射膜有金屬膜和介質(zhì)膜兩種。鍍制金屬高反射膜常用的材料有鋁、銀、金、銅等。為了提高金屬膜表面的抗擦損能力，往往在表面鍍一層保護膜，如SiO/SiO2/Al2O3。

在激光器和多光束干涉儀反射鏡上，一般沉積低吸收、高反射的全介質(zhì)反射膜。其結構是在基片上交替沉積光學厚度為λ/4的高、低折射率材料的膜層。

AF真空鍍膜機鍍膜原理

AF真空鍍膜機鍍膜原理：減反射膜又稱增透膜，它的主要功能是減少或消除透鏡、棱鏡、平面鏡等學表面的反射光，從而增加這些元件的透光量，減少或消除系統(tǒng)的雜散光。減反射膜是以光的波動性和干涉現(xiàn)象為基礎的。二個振幅相同，波長相同的光波疊加，那么光波的振幅增強；如果二個光波原由相同，波程相差，如果這二個光波疊加，那么互相抵消了。減反射膜就是利用了這個原理，在鏡片的表面鍍上減反射膜(AR-coating），使得膜層前后表面產(chǎn)生的反射光互相干擾，從而抵消了反射光，達到減反射的效果。簡單的增透膜是單層膜。一般情況下，采用單層增透膜很難達到理想的增透效果,為了在單波長實現(xiàn)零反射,或在較寬的光譜區(qū)達到好的增透效果，往往采用雙層、三層甚至更多層數(shù)的減反射膜。減反射膜的實際應用非常廣泛，常見的是鏡片及太陽能電池-通過制備減反射膜來提高光伏組件的功率瓦值。目前晶體硅光伏電池使用的減反射膜材料是氮化硅，采用等離子增強化學氣相淀積技術，使氨氣離子化，沉積在硅片的表面，具有較高的折射率，能起到較好的減反射效果。早期的光伏電池采用二氧化硅和二氧化鈦膜作為減反射層。

說起鍍膜機，大家耳熟能詳，但是說起多功能真空鍍膜機，可能會了解的比較少，那具體為什么叫多工功能鍍膜機呢，是因為功能多嗎？那下面為大家詳細介紹一下

多功能真空鍍膜機的技術和原理不管是真空鍍膜機，還是多功能真空鍍膜機工作環(huán)境，都是在真空環(huán)境下的，需要先抽真空，使真空室處于真空狀態(tài)，再進行鍍膜；鍍膜完成后，需要向真空室充氣?，F(xiàn)有技術中，真空鍍膜機的充氣管道直接與外界連通，容易把外界空氣中的灰塵帶入真空室，導致鏡片上吸附灰塵，造成產(chǎn)品不良，工廠里使用的鍍膜機對于真空度的控制并不是很穩(wěn)定，導致生產(chǎn)過程中產(chǎn)品的性能不夠穩(wěn)定，因此，解決生產(chǎn)過程中鍍膜機里的真空度不易控制的問題尤為重要，而且內(nèi)部鍍膜物件的溫度高，需要及時降溫，提高工作效率。

現(xiàn)代真空鍍膜機膜厚測量及監(jiān)控方法

現(xiàn)代真空鍍膜機膜厚測量及監(jiān)控方法 涂層的鍍膜機控制方法是直接的石英晶體微天平(QCM)的方法，該儀器可以直接驅(qū)動的蒸發(fā)源，通過PID控制回路傳動擋板，使蒸發(fā)率。只要儀器和系統(tǒng)控制軟件的連接，它可以控制涂層的全過程。但(QCM)的準確性是有限的，鍍膜機部分原因是其監(jiān)測代替光學厚度的涂層質(zhì)量。 此外，雖然QCM在低溫下非常穩(wěn)定，但溫度高，它將成為對溫度很敏感。在長時間的加熱過程中，鍍膜機很難避免傳感器為敏感的區(qū)域，導致薄膜的重大錯誤。光學監(jiān)測是一種涂層優(yōu)選的監(jiān)控模式，鍍膜機這是因為它能準確控制膜的厚度(如果使用得當)。