真空鍍膜

②光密度法。光密度(OD)定義為材料遮光能力的表征。光密度沒有量綱單位，是一個對數(shù)值，通常僅對鍍鋁薄膜和珠光膜進行光密度測量。 光密度是入射光與透射光比值的對數(shù)或者說是光線透過率倒數(shù)的對數(shù)。

計算公式為： OD=lg（入射光／透射光）或OD=lg（1／透光率） 通常鍍鋁膜的光密度值為l～3(即光線透過率為0.10/0~10%)，數(shù)值越大鍍鋁層越厚。 光密度OD值、方阻值對應(yīng)的鋁層厚度如表6-7所示。 表6-70D值、方阻值和鋁層厚度對照表 光密度 OD值 電阻值 Ohm/Square方阻值 鋁層厚度 A 1.6 3 320 1.8 2.7 360 2.0 2.35 400 2.2 2.05 440 2.4 1.8 480 2.6 1.55 520 2.8 1.3 560 3.0 1.0 600

  電鍍加工廠告訴你電鍍是什么？，希望對大家有所幫助。

  電鍍：1：利用電解工藝，將金屬或合金沉積在鍍件表面，形成金屬鍍層的表面處理技術(shù)。 所屬學(xué)科：電力（一級學(xué)科）；配電與用電（二級學(xué)科） 定義2：利用電解在制件表面形成均勻、致密、結(jié)合良好的金屬或合金沉積層的過程。 所屬學(xué)科：機械工程（一級學(xué)科）；表面工程（二級學(xué)科）；電鍍與化學(xué)鍍（三級學(xué)科）

真空鍍膜技術(shù)是一種新穎的材料合成與加工的新技術(shù)，是表面工程技術(shù)領(lǐng)域的重要組成部分。真空鍍膜技術(shù)是利用物理、化學(xué)手段將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜，從而使固體表面具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、、防輻射、導(dǎo)電、導(dǎo)磁、絕緣和裝飾等許多優(yōu)于固體材料本身的優(yōu)越性能，達(dá)到提高產(chǎn)品質(zhì)量、延長產(chǎn)品壽命、節(jié)約能源和獲得顯著技術(shù)經(jīng)濟效益的作用。

真空PVD鍍膜涂層表面摩擦系數(shù)小，經(jīng)過表面拋光的金屬材料的表面對鋼摩擦系數(shù)一般在0.9左右，真空PVD鍍膜涂層對鋼材的摩擦系數(shù)在0.01～0.6之間，常用于壓鑄模具的真空PVD鍍膜涂層材料（AlCrN，AlTiN）摩擦系數(shù)一般在0.4-0.6，低的摩擦系數(shù)使經(jīng)過真空PVD鍍膜處理的模具在加工過程中與被加工零件的表面摩擦降低，零件表面品質(zhì)優(yōu)于沒有涂層的模具所生產(chǎn)的零件。

pvd真空電鍍具有沉積速度快和表面清潔的特點，特別具有膜層附著力強、繞性好、可鍍材料廣泛等優(yōu)點。 采用全球先進的磁控濺射離子鍍膜和多弧離子鍍膜工藝設(shè)備，及在此基礎(chǔ)之上與國際專家的工藝創(chuàng)新。憑借在裝飾鍍行業(yè)十多年的寶貴經(jīng)驗，為客戶提供適合的涂層加工方案。

 真空鍍膜常用在相機鏡頭、近視、、老花鏡等矯正眼鏡上使用。

 真空鍍膜是在表面鍍上非常薄的透明薄膜。目的是希望減少光的反射，增加透光率，抗紫外線并抑低耀光、鬼影;不同顏色的真空鍍膜，也使的成像色彩平衡的不同。此外，真空鍍膜尚可延遲鏡片老化、變色的時間。