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發(fā)布時間:2020-10-21 08:12  
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NR9-3000PYNR94 8000PY光刻膠價格
四、前烘(Soft Bake)
完成光刻膠的涂抹之后,需要進行軟烘干操作,這一步驟也被稱為前烘。前烘能夠蒸發(fā)光刻膠中的溶劑溶劑、能使涂覆的光刻膠更薄。
在液態(tài)的光刻膠中,溶劑成分占65%-85%。雖然在甩膠之后,液態(tài)的光刻膠已經(jīng)成為固態(tài)的薄膜,但仍有10%-30%的溶劑,容易沾污灰塵。通過在較高溫度下進行烘培,可以使溶劑從光刻膠中揮發(fā)出來(前烘后溶劑含量降至5%左右),從而降低了灰塵的沾污。同時,這一步驟還可以減輕因高速旋轉(zhuǎn)形成的薄膜應力,從而提高光刻膠 襯底上的附著性。企業(yè)持續(xù)發(fā)展也需投入較大的資金,光刻膠行業(yè)在資金上存在較高的壁壘,國外光刻膠廠商相對于國內(nèi)廠商,其公司規(guī)模更大,具有資金和技術優(yōu)勢。
在前烘過程中,由于溶劑揮發(fā),光刻膠厚度也會減薄,一般減薄的幅度為10%-20%左右。
五、曝光
在這一步中,將使用特定波長的光對覆蓋襯底的光刻膠進行選擇性地照射。光刻膠中的感光劑會發(fā)生光化學反應,從而使正光刻膠被照射區(qū)域(感光區(qū)域)、負光刻膠未被照射的區(qū)域(非感光區(qū))化學成分發(fā)生變化。這些化學成分發(fā)生變化的區(qū)域,在下一步的能夠溶解于特定的顯影液中。在半導體應用領域,隨著汽車電子、物聯(lián)網(wǎng)等發(fā)展,會在一定程度上增加對G線、I線的需求,利好G線、I線等生產(chǎn)企業(yè)。
在接受光照后,正性光刻膠中的感光劑DQ會發(fā)生光化學反應,變?yōu)橐蚁┩?,并進一步水解為茚并羧酸(Indene-Carboxylic-Acid, CA),羧酸在堿性溶劑中的溶解度比未感光部分的光刻膠高出約100倍,產(chǎn)生的羧酸同時還會促進酚醛樹脂的溶解。利用感光與未感光光刻膠對堿性溶劑的不同溶解度,就可以進行掩膜圖形的轉(zhuǎn)移。據(jù)WitsView數(shù)據(jù),雖然近三年國際LCD廠商面板出貨量有所下降,但是由于大屏顯示的市場擴增,LCD整體出貨面積變大,2016年出貨總面積達到1。
曝光方法:
a、接觸式曝光(Contact Printing)掩膜板直接與光刻膠層接觸。
b、接近式曝光(Proximity Printing)掩膜板與光刻膠層的略微分開,大約為10~50μm。
c、投影式曝光(Projection Printing)。在掩膜板與光刻膠之間使用透鏡聚集光實現(xiàn)曝光。
d、步進式曝光(Stepper)
PC6-16000
NR9-3000PY 相對于其他光刻膠具有如下優(yōu)勢:
- 優(yōu)異的分辨率性能
- 快速地顯影
- 可以通過調(diào)節(jié)曝光能量很容易地調(diào)節(jié)倒梯形側(cè)壁的角度
- 耐受溫度100℃
- 室溫儲存保質(zhì)期長達3 年
NR9-1000PY 0.7μm - 2.1μm
NR9-1500PY 1.1μm - 3.1μm
NR9-3000PY 2.1μm - 6.3μm
NR9-6000PY 5.0μm -
12.2μm
Resist Thickness
NR71-1000PY 0.7μm - 2.1μm
NR71-1500PY 1.1μm - 3.1μm
NR71-3000PY 2.1μm - 6.3μm
NR71-6000PY 5.0μm - 12.2μm


