陰面蝕刻標(biāo)牌怎么手工上漆

而市場(chǎng)上的感光抗蝕刻油墨，由于脫墨所需的火堿濃度和溫度都很高，即使先期把油漆搞上去了，在脫墨的環(huán)節(jié)中油漆往往也會(huì)跟著油墨一起脫下來(lái)，造成前功盡棄!！蝕刻機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)正常后，先在入料口放一塊試刻用的不銹鋼板，傳送帶會(huì)把它緩慢的送入機(jī)器內(nèi)部。所以新型油墨的使用，盡管依然不是我們所夢(mèng)寐以求的具有顛覆性的方法，但是讓我們對(duì)于鏡面板的上漆方法又多了一種新的選擇！對(duì)于小批量、多品種的標(biāo)牌生產(chǎn)其意義尤為重大。

FY6000型感光油墨使用流程和工藝參數(shù)如下：

噴涂或者200--300目絲網(wǎng)滿(mǎn)版刮印在金屬板上

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烘烤90--100攝氏度，時(shí)間8--15分鐘

紫外線(xiàn)曝光。燈距50-60公分。1000瓦燈管5--8分鐘，或者2000瓦燈管3---4分鐘

顯影。1%--2%的純堿（碳酸鈉）溶液，30攝氏度，1--2分鐘

蝕刻---噴漆---烤漆---除漆。漆膜非常容易脫離感光油墨層，而且除漆時(shí)不會(huì)傷及金屬板材

脫掉感光油墨。1000ml水僅需20克火堿和20克純堿配制成脫墨液。溶液溫度40攝氏度，時(shí)間3--4分鐘。由于脫墨液濃度小、溫度低所以不會(huì)影響油漆的附著力。

清水沖洗，干燥后，可以噴涂光油保護(hù)。后裁切包裝，整個(gè)生產(chǎn)流程完畢。

總體設(shè)計(jì)方案 設(shè)計(jì)依據(jù) 標(biāo)識(shí)的設(shè)計(jì)依據(jù)如下幾方面： 企業(yè)對(duì)表達(dá)其經(jīng)營(yíng)理念和定位的要求； 企業(yè)的人機(jī)信息交換流程（企業(yè)內(nèi)部的結(jié)構(gòu)，往來(lái)關(guān)系）； 企業(yè)的室內(nèi)外建筑環(huán)境條件；

標(biāo)識(shí)的表達(dá)方式；發(fā)動(dòng)酸泵，讓三氯化鐵溶液在機(jī)器內(nèi)循環(huán)，調(diào)查溫度表高不能超過(guò)50度。 標(biāo)識(shí)的效果評(píng)價(jià)（由企業(yè)方?jīng)Q定） 企業(yè)標(biāo)識(shí)導(dǎo)向分類(lèi)原理； 標(biāo)識(shí)設(shè)計(jì)的理論參考依據(jù)。 企業(yè)方（客戶(hù)方）可根據(jù)自身的情況與設(shè)計(jì)者交流，參照以往的工程案例，經(jīng)驗(yàn)和其他參考 資料，整合出一個(gè)概念，其中包括用材、用色、效果、成本、節(jié)能，售后維護(hù)等多方位考慮。 有了一個(gè)清晰的目標(biāo)就會(huì)使企業(yè)方（客戶(hù)），設(shè)計(jì)及承造方少走彎路程，效率顯著，并容易 使雙方能在一稿后即可進(jìn)入一個(gè)更高層面思考、論證方案。

蝕刻過(guò)程中應(yīng)注意的問(wèn)題

1. 減少側(cè)蝕和突沿﹐提高蝕刻系數(shù)

側(cè)蝕會(huì)產(chǎn)生突沿。 通常印制板在蝕刻液中的時(shí)間越長(zhǎng), 側(cè)蝕的情況越嚴(yán)重。 側(cè)蝕將嚴(yán) 重影響印制導(dǎo)線(xiàn)的精度﹐ 嚴(yán)重的側(cè)蝕將不可能制作精細(xì)導(dǎo)線(xiàn)。 當(dāng)側(cè)蝕和突沿降低時(shí)﹐蝕刻 系數(shù)就會(huì)升高﹐高蝕刻系數(shù)表示有保持細(xì)導(dǎo)線(xiàn)的能力﹐使蝕刻后的導(dǎo)線(xiàn)能接近原圖尺寸。3、經(jīng)反復(fù)實(shí)驗(yàn)噴射壓力在1-2Kg/cm2的情況下被蝕刻工件上所殘留的蝕刻圬漬能被有效清處掉，使蝕刻速度在傳統(tǒng)蝕刻法上大大提高，由于該蝕刻機(jī)液體可循環(huán)再生使用，此項(xiàng)可大大降低蝕刻成本，也可達(dá)到環(huán)保加工要求。 無(wú)論是錫-鉛合金﹐錫﹐錫-鎳合金或鎳的電鍍蝕刻劑, 突沿過(guò)度時(shí)都會(huì)造成導(dǎo)線(xiàn)短路。

去邊（Edge bead removal-EBR）--去膠邊的過(guò)程，通常在涂膠后將溶劑噴在硅片的背面或前 邊沿上。 前烘（Soft-bake）-- 在涂膠后用來(lái)去除膠溶劑的溫度步驟。 曝光-- 把涂膠后的硅片，暴露在某種形式的射線(xiàn)下，以在膠上產(chǎn)生隱約的圖像 的步驟。 PEB —曝光以后消除膠里的由襯底反射引起的膠里的駐波的溫度步驟。2：鋁牌填漆，我上了漆以后用煤油清理周邊的多余漆，整版顏色都不白了啊。 顯影（Development）-- 在曝光以后分解膠產(chǎn)生掩膜圖案的過(guò)程。 后烘 (Hard-bake)—用來(lái)去除殘留溶劑，增加膠的沾著力和耐腐能力，在顯影后完成，可以包 括 DUV 固膠。