鋼研納克ICP光譜儀源于鋼鐵研究總院,35年電感耦合等離子體光譜儀方法開發(fā)經(jīng)驗(yàn),數(shù)十項(xiàng)ICP檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)的起草單位,重大科學(xué)儀器專項(xiàng)《ICP痕量分析儀器的研制》牽頭單位,ICP光譜儀產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)GB/T 36244-2018起草單位,懂ICP應(yīng)用的國產(chǎn)ICP光譜儀制造商。央企品牌，上市公司，品質(zhì)之選！

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鋼研納克雙向觀測(cè)Plasma 3000 ICP光譜儀分析性能

檢 出 限：亞 ppb- ppb 短期穩(wěn)定性：RSD ≤ 0.5%（1mg/L） 長期穩(wěn)定性：RSD ≤ 1.0%（4h，1mg/L）

光  源

自激式固態(tài)射頻發(fā)生器，功率連續(xù) 1 瓦可調(diào) 震蕩頻率：27.12MHz

輸出功率：700W-1600W 功率穩(wěn)定性：< 0.1%

儀器規(guī)格

尺寸：寬 x 深 x 高（106cm x 67cm x 75cm） 重  量：約 180kg

光學(xué)系統(tǒng)

分析譜線范圍：165-950nm

分  辨  率： 0.007nm@200nm

光室恒溫：38℃ ±0.1℃

CCD 像素：1024x 1024

單像素面積：24μm x 24μm

工作環(huán)境

實(shí)驗(yàn)室濕度環(huán)境：相對(duì)濕度 20%~80% 氬氣純度：不小于 99.95%

排  風(fēng)：不小于 400 立方米 / 小時(shí)

電  源：200V~240V AC 單相；50Hz~60Hz；4kVA

鋼研納克 Plasma2000 全譜ICP光譜儀

Plasma2000電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀是鋼研納克在首批“國家重大科學(xué)儀器設(shè)備開發(fā)專項(xiàng)”支持下研發(fā)的二維全譜高分辨ICP光譜儀，是國產(chǎn)全譜ICP光譜儀革命性產(chǎn)品，曾斬獲中國儀器儀表行業(yè)協(xié)會(huì)“自主創(chuàng)新金獎(jiǎng)”等一系列榮譽(yù)，在業(yè)界獲得廣泛的好評(píng)。美觀精致的高顏值工業(yè)設(shè)計(jì)，優(yōu)異穩(wěn)定的測(cè)試性能源于納克近四十年ICP行業(yè)經(jīng)驗(yàn)。Plasma2000擁有

1、中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu)，徑向觀測(cè)，具有穩(wěn)健的檢測(cè)能力。

2、 有效穩(wěn)定的自激式固態(tài)射頻發(fā)生器，體積小巧，匹配速度快，確保儀器的精度較高運(yùn)行及優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。

3、 高速面陣CCD采集技術(shù)，單次曝光獲取全部譜線信息，真正實(shí)現(xiàn)“全譜直讀”。

4、 功能強(qiáng)大的軟件系統(tǒng)，簡化分析方法的開發(fā)過程，為用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗(yàn)。

可廣泛應(yīng)用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析。

鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司是專業(yè)的ICP光譜儀生產(chǎn)企業(yè),主營產(chǎn)品有: ICP光譜儀,電感耦合等離子體光譜儀,國產(chǎn)ICP光譜儀,ICP光譜分析儀,全譜ICP,單道掃描ICP光譜儀,ICP-AES,ICP-OES等。源于鋼鐵研究總院,35年電感耦合等離子體光譜儀方法開發(fā)經(jīng)驗(yàn),數(shù)十項(xiàng)ICP檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)的起草單位,中國ICP光譜儀產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)GB/T 36244-2018《電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜儀》起草單位,懂ICP的國產(chǎn)ICP光譜儀制造商。歡迎來電洽談