金屬試樣表面各組成相的電化學(xué)電位不同，形成了許多微電勢(shì)，在化學(xué)溶液中會(huì)產(chǎn)生不均勻溶解。在溶解過(guò)程中試樣面表層會(huì)產(chǎn)生一層氧化膜，試樣表面凸出部分由于 粘膜薄，金屬的溶解擴(kuò)展速度較慢，拋光后的表面光滑，但形成有小的起伏波形，不能達(dá)到十分理想的要求。如果鋁材內(nèi)部組織缺引起表面粗糙，如鑄造成壓鑄的鋁工件，鋁材晶粒細(xì)化不充分及疏松，夾渣等缺陷，加工過(guò)程中變形不充分，松枝狀花紋等缺陷造成的表面粗糙，則應(yīng)從提高鋁材內(nèi)部質(zhì)量來(lái)解決，因此，鋁材生產(chǎn)工藝對(duì)提高化學(xué)拋光表面質(zhì)量非常重要。

化學(xué)拋光是一種將金相樣品浸入調(diào)配的化學(xué)拋光液中，借化學(xué)藥劑的溶解作用而得到的拋光表面的拋光方法?；瘜W(xué)拋光是常見(jiàn)的金相樣品拋光方法之一，這種方法操作簡(jiǎn)便，不需任何儀器設(shè)備，只需要選擇適當(dāng)?shù)幕瘜W(xué)拋光液和掌握很好的拋光規(guī)范，就能快速得到較理想的光潔而無(wú)變形層的表面。化學(xué)拋光操作注意事項(xiàng)鋁材組織的晶粒過(guò)大時(shí)，則達(dá)不到理想的拋光效果。

化學(xué)拋光和電化學(xué)拋光與機(jī)械拋光相比較，具有以下的優(yōu)點(diǎn)：①設(shè)備簡(jiǎn)單，工藝參數(shù)易于控制，可大大節(jié)省機(jī)械拋光需要的基建與設(shè)備費(fèi)用，在某些情況下部分取代或繼續(xù)機(jī)械拋光，表面光亮度更高；②可處理大型零部件或大批量的小型零部件，以及形狀復(fù)雜而無(wú)法進(jìn)行自動(dòng)化機(jī)械拋光處理的工件，這種情況下機(jī)械拋光是無(wú)法替代的；③化學(xué)或電化學(xué)拋光后的表面潔凈，無(wú)殘留的機(jī)械拋光粉塵，有良好的抗腐蝕性；在這三種應(yīng)用中以機(jī)械拋光后的化學(xué)拋光要求最為嚴(yán)格，同時(shí)也較難控制。④化學(xué)拋光的表面鏡面反射率更高，金屬質(zhì)感也更好，表面不會(huì)形成粉霜。

化學(xué)拋光工藝主要需要特別注意。

1. 化學(xué)拋光時(shí)間的確定依工件半成品表面質(zhì)量、制造工藝、溶鋁量、溫度和光亮度而定，限制化學(xué)拋光時(shí)間是為了防止氣體缺陷產(chǎn)生。

2. 化學(xué)拋光后，工件應(yīng)該迅速轉(zhuǎn)移到水洗槽進(jìn)行水洗。

3. 磷酸為基的化學(xué)拋光槽液，硝I酸的含量應(yīng)維持在正常的范圍內(nèi)。

4. 化學(xué)拋光槽液的相對(duì)密度可以用密度計(jì)測(cè)定，每周至少測(cè)一次。生產(chǎn)量大的要每日測(cè)量。

影響化學(xué)拋光效果的因素較多，常見(jiàn)的有以下幾點(diǎn)

(1)鋁合金的純度較低。當(dāng)鋁合金純度較低時(shí)是不適宜化學(xué)拋光的，應(yīng)與設(shè)計(jì)人員商討，如仍需要光亮的，則在可能條件下改為鍍鎳或鍍鉻，或下批投產(chǎn)之前改用鋁材制作。

(2)制件表面有污物。鋁制件進(jìn)入化學(xué)拋光溶液之前需充分做好預(yù)處理、至制件表面不再有污跡物。

(3)拋光溶液中磷酸含量可能過(guò)低。適量補(bǔ)充后再試拋。