真空鍍膜設(shè)備_磁控濺射鍍膜設(shè)備技術(shù)應(yīng)用

蒸發(fā)和磁控濺射兩用立式裝飾鍍膜機(jī)，主要適用于塑料、陶瓷、玻璃金屬材料表面鍍制金屬化裝飾膜。由于鍍膜室為立式容器，所以它具有臥式鍍膜機(jī)的一切優(yōu)點(diǎn)，又利于自重較大的、易碎的鍍件裝卡，更可方便地實(shí)現(xiàn)自動(dòng)生產(chǎn)線，是替代傳統(tǒng)濕法水電鍍的更為理想的新一代真空鍍膜設(shè)備。本機(jī)鍍部分產(chǎn)品可不做底油。

真空鍍膜設(shè)備機(jī)主要特點(diǎn)配用改進(jìn)型高真空排氣系統(tǒng)，抽速快、、節(jié)電、降噪和延長泵使用壽命;實(shí)現(xiàn)蒸發(fā)、磁控濺射、自動(dòng)控制，操作簡(jiǎn)單，工作可靠;蒸發(fā)鍍應(yīng)用新型電極引入裝置，接觸電阻小且可靠;磁控濺射應(yīng)用鍍膜材料廣泛，各種非導(dǎo)磁的金屬、合金均可作鍍料;結(jié)構(gòu)緊湊、占地面積小;磁控、蒸發(fā)共用兩臺(tái)立式工件車，操作方便。

(或雙門蒸發(fā)、磁控兩用機(jī))至成真空科技業(yè)務(wù)范圍真空鍍膜成套設(shè)備與技術(shù)，真空工程用各種泵、閥、真空計(jì)、油、脂、密封件，真空鍍膜材料、涂料、金屬及合金制品。

真空鍍膜設(shè)備故障診斷與排除、老產(chǎn)品改造。新型塑料、金屬、玻璃等制品表面處理工藝及技術(shù)研究，咨詢服務(wù)。新技術(shù)、新設(shè)備、新工藝至成真空科技新開發(fā)的磁控、蒸發(fā)多用鍍膜機(jī)，配用改進(jìn)型高真空抽氣系統(tǒng)及全自動(dòng)控制系統(tǒng)，抽速快、、操作簡(jiǎn)單、工作可靠;具有可鍍膜系廣、膜層均勻、附著力好、基板溫度底等特點(diǎn);是鍍制金屬、合金及化合物膜的理想設(shè)備;適合鍍制透明膜、半透明膜、超硬膜、屏蔽膜及一些特殊的功能性膜。已廣泛應(yīng)用在光學(xué)、電子、通訊、航空等領(lǐng)域。

真空鍍膜機(jī)光學(xué)鍍膜加工上有什么要注意的嗎?

段時(shí)間有一個(gè)采購光學(xué)鍍膜機(jī)的客戶簽訂協(xié)議的時(shí)候，咨詢我這個(gè)問題，真空鍍膜機(jī)光學(xué)鍍膜加工有沒有什么需要注意的地方。在簽訂協(xié)議完成的后一個(gè)環(huán)節(jié)，我們的銷售培訓(xùn)了大量的設(shè)備相關(guān)的操作知識(shí)和注意事項(xiàng)，客戶也學(xué)到了不少相關(guān)的知識(shí)。今天至成真空小編也再次詳細(xì)和大家講解一下真空鍍膜機(jī)光學(xué)鍍膜加工上應(yīng)該注意的事項(xiàng)，加強(qiáng)大家的設(shè)備方面的知識(shí)和技能。

真空鍍膜機(jī)光學(xué)鍍膜加工上有什么要注意的嗎？當(dāng)光線進(jìn)入不同傳遞物質(zhì)時(shí)（如由空氣進(jìn)入玻璃），大約有5%會(huì)被反射掉，在光學(xué)鏡中有許多透鏡和折射鏡，整個(gè)加起來可以讓入射光線損失達(dá)30%至40%。現(xiàn)代光學(xué)透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜，單層增透膜可使反射減少至1.5%，多層增透膜則可讓反射降低至0.25%，所以整個(gè)準(zhǔn)鏡如果加以適當(dāng)鍍膜，光線透穿率可達(dá)95%。鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍(lán)紫色或是紅色，鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫色。

真空鍍膜機(jī)增透膜增加透射光強(qiáng)度的實(shí)質(zhì)是作為電磁波的光波在傳播的過程中，在不同介質(zhì)的分界面上，由于邊界條件的不同，改變了其能量的分布。對(duì)于單層薄膜來說，當(dāng)增透膜兩邊介質(zhì)不同時(shí)，薄膜厚度為1/4波長的奇數(shù)倍且薄膜的折射率n=（n1*n2)^(1/2)時(shí)（分別是介質(zhì)1、2的折射率），才可以使入射光全部透過介質(zhì)。一般光學(xué)透鏡都是在空氣中使用，對(duì)于一般折射率在1.5左右的光學(xué)玻璃，為使單層膜達(dá)到100%的增透效果，可使n1=1.23，或接近1.23；還要使增透薄膜的厚度=（2k 1)倍四分之一個(gè)波長。單層膜只對(duì)某一特定波長的電磁波增透，為使在更大范圍內(nèi)和更多波長實(shí)現(xiàn)增透，人們利用鍍多層膜來實(shí)現(xiàn)。

人們對(duì)增透膜的利用有了很多的經(jīng)驗(yàn)，發(fā)現(xiàn)了不少可以作為增透膜的材料；同時(shí)也掌握了不少先進(jìn)的鍍膜技術(shù)，因此增透膜的應(yīng)用涉及醫(yī)學(xué)、軍事、太空探索等各行各業(yè)，為人類科技進(jìn)步作出了重大貢獻(xiàn)。

光學(xué)鍍膜技術(shù)在過去幾十年實(shí)現(xiàn)了飛快的發(fā)展，從舟蒸發(fā)、電子束熱蒸發(fā)及其離子束輔助沉積技術(shù)發(fā)展到離子束濺射和磁控濺射技術(shù)。近年來在這些沉積技術(shù)和裝備領(lǐng)域的主要技術(shù)有以下三點(diǎn)：

一、漸變折射率結(jié)構(gòu)薄膜技術(shù)與裝備：

漸變折射率結(jié)構(gòu)薄膜技術(shù)與裝備:已經(jīng)有大量研究工作已經(jīng)證實(shí)Rugate無界面型薄膜結(jié)構(gòu)和準(zhǔn)Rugate多種折射率薄膜結(jié)構(gòu)通過加強(qiáng)調(diào)制折射率在薄膜厚度方向上分布，能設(shè)計(jì)出非常復(fù)雜的光譜性能，(部分)消除

了薄膜界面特征，(部分)消除界面效應(yīng)，如電磁波在界面上比薄膜內(nèi)部更高密度的吸收中心和散射，也可以增加了薄膜力學(xué)穩(wěn)定性。

二、磁控濺射光學(xué)鍍膜系統(tǒng)

以LeyboldHelios和ShincronRAS為代表，磁控濺射技術(shù)及裝備在精密光學(xué)領(lǐng)域和消費(fèi)光電子薄膜領(lǐng)域占據(jù)越來越大的份額。磁控濺射薄膜沉積過程控制簡(jiǎn)單，粒子能量高，獲得的薄膜結(jié)構(gòu)致密穩(wěn)定。

三、間歇式直接光控：

間歇式直接光控：以LeyboldOptics公司的OMS5000系統(tǒng)為代表，光學(xué)鍍膜過程中越來越多地使用間歇式信號(hào)采集系統(tǒng)，對(duì)鍍膜過程產(chǎn)品片實(shí)現(xiàn)直接監(jiān)控。相對(duì)于間接光控和晶控系統(tǒng)，間歇式直接光控系統(tǒng)有利于降低實(shí)際產(chǎn)品上的薄膜厚度分布誤差，可以進(jìn)一步提高產(chǎn)品良率并減少了工藝調(diào)試時(shí)間。

多弧離子真空鍍膜機(jī)發(fā)展歷程及特點(diǎn)

20世紀(jì)70年代以來，隨著工業(yè)技術(shù)的不斷發(fā)展，對(duì)材料的綜合性能要求不斷提高，單一材料性能已經(jīng)不能滿足某些特征環(huán)境下工作機(jī)械的性能要求。離子真空鍍膜機(jī)鍍膜技術(shù)通過物理作用，使基體表面沉積出薄膜，在美觀的同時(shí)又有效提高鍍件的物理化學(xué)性能，從而提高產(chǎn)品的使用壽命。離子鍍技術(shù)是當(dāng)今使用面廣、先進(jìn)的表面處理技術(shù)之一。據(jù)統(tǒng)計(jì)，國內(nèi)外已有近一半以上表面處理使用多弧離子鍍技術(shù)，特別適用于對(duì)耐磨性、耐腐蝕性有特殊要求的場(chǎng)合。80年代后期，國內(nèi)外相繼開發(fā)了離化效率更高的電弧放電真空離子鍍、多弧真空離子鍍等，使離子鍍技術(shù)進(jìn)入了一個(gè)新階段.

近年來，離子真空鍍膜機(jī)的自動(dòng)化程度得到了較快發(fā)展，國外的設(shè)備采用智能一體化控制系統(tǒng)，可精準(zhǔn)計(jì)算和控制鍍膜過程中的基體溫度、氣體流量和靶電流等關(guān)鍵性參數(shù)。國內(nèi)真空離子鍍膜機(jī)的自動(dòng)化程度也有了一定的發(fā)展，但在鍍膜產(chǎn)品穩(wěn)定性和精準(zhǔn)性方面尚需提升，設(shè)備依賴進(jìn)口。同時(shí)多弧離子鍍膜機(jī)低端產(chǎn)品市場(chǎng)存在供大于求的情況，價(jià)格競(jìng)爭(zhēng)較為激烈。