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六安AF真空鍍膜設(shè)備公司「至成真空科技」

發(fā)布時(shí)間:2021-09-19 06:57  

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什么是光學(xué)鍍膜:


光學(xué)鍍膜是指在光學(xué)零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))薄膜的工藝過(guò)程。在光學(xué)零件表面鍍膜的目的是為了達(dá)到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學(xué)鍍膜。

光學(xué)鍍膜原理:真空鍍膜真空鍍膜:真空鍍膜主要是指需要在更高真空下進(jìn)行的涂料,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等多種涂料,所以。蒸發(fā)和濺射有兩種主要類型。將被鍍材料制成基材,將電鍍材料用作靶材或藥材。襯底處于與靶相同的真空中。

蒸發(fā)涂層通常是加熱目標(biāo),以使表面組分以自由基或離子的形式蒸發(fā),并通過(guò)成膜方法(散射島結(jié)構(gòu)-梯形結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng))沉積在基材的表面上,薄膜。


對(duì)于濺射狀涂層,很容易理解目標(biāo)材料是用電子或高能激光器轟擊的,表面組分以自由基或離子的形式濺射,后沉積在基底表面上終形成一部薄膜。

常見(jiàn)的光學(xué)鍍膜材料有以下幾種:

1、二氧化硅材料特點(diǎn):無(wú)色透明晶體,熔點(diǎn)高,硬度大,化學(xué)穩(wěn)定性好。純度高,用其制備高質(zhì)量Si02鍍膜,蒸發(fā)狀態(tài)好,不出現(xiàn)崩點(diǎn)。按使用要求分為紫外、紅外及可見(jiàn)光用。

2、氧化鋯材料特點(diǎn)白色重質(zhì)結(jié)晶態(tài),具有高的折射率和耐高溫性能,化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,純度高,用其制備高質(zhì)量氧化鋯鍍膜,不出崩點(diǎn)。



真空鍍膜則是相對(duì)于上述的濕式鍍膜方法而發(fā)展起來(lái)的一種新型鍍膜技術(shù),通常稱為干式鍍膜技術(shù)。


真空鍍膜技術(shù)一般分為兩大類,即物理氣相沉積(PVD)技術(shù)和化學(xué)氣相沉積(CVD)技術(shù)。

物理氣相沉積技術(shù)是指在真空條件下,利用各種物理方法,將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子,直接沉積到基體表面上的方法。制備硬質(zhì)反應(yīng)膜大多以物理氣相沉積方法制得,它利用某種物理過(guò)程,如物質(zhì)的熱蒸發(fā),或受到離子轟擊時(shí)物質(zhì)表面原子的濺射等現(xiàn)象,實(shí)現(xiàn)物質(zhì)原子從源物質(zhì)到薄膜的可控轉(zhuǎn)移過(guò)程。物理氣相沉積技術(shù)具有膜/基結(jié)合力好、薄膜均勻致密、薄膜厚度可控性好、應(yīng)用的靶材廣泛、濺射范圍寬、可沉積厚膜、可制取成分穩(wěn)定的合金膜和重復(fù)性好等優(yōu)點(diǎn)。同時(shí),物理氣相沉積技術(shù)由于其工藝處理溫度可控制在500℃以下,因此可作為終的處理工藝用于高速鋼和硬質(zhì)合金類的薄膜刀具上。由于采用物理氣相沉積工藝可大幅度提高刀具的切削性能,人們?cè)诟?jìng)相開(kāi)發(fā)、高可靠性設(shè)備的同時(shí),也對(duì)其應(yīng)用領(lǐng)域的擴(kuò)展,尤其是在高速鋼、硬質(zhì)合金和陶瓷類刀具中的應(yīng)用進(jìn)行了更加深入的研究。

化學(xué)氣相沉積技術(shù)是把含有構(gòu)成薄膜元素的單質(zhì)氣體或化合物供給基體,借助氣相作用或基體表面上的化學(xué)反應(yīng),在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法,主要包括常壓化學(xué)氣相沉積、低壓化學(xué)氣相沉積和兼有CVD和PVD兩者特點(diǎn)的等離子化學(xué)氣相沉積等。



常用的光學(xué)鍍膜有哪些?


干涉濾光片

是種類多、結(jié)構(gòu)復(fù)雜的一類光學(xué)薄膜。它的主要功能是分割光譜帶。常見(jiàn)的干涉濾光片是截止濾光片和帶通濾光片。截止濾光片可以把所考慮的光譜區(qū)分成兩部分,一部分不允許光通過(guò)(稱為截止區(qū)),另一部分要求光充分通過(guò)(稱為帶通區(qū))。按照通帶在光譜區(qū)的位置又可分為長(zhǎng)波通和短波通二種,它們簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)分別為,這里H、L分別表示厚的高、低折射率層,m為周期數(shù)。具有以上結(jié)構(gòu)的膜系稱為對(duì)稱周期膜系。如果所考慮的光譜區(qū)很寬或通帶透過(guò)率的波紋要求很高,膜系結(jié)構(gòu)會(huì)更加復(fù)雜。

帶通濾光片只允許光譜帶中的一段通過(guò),而其他部分全部被濾掉,按照它們結(jié)構(gòu)的不同可分為法布里-珀羅型濾光片、多腔濾光片和誘增透濾光片。


光學(xué)薄膜的結(jié)構(gòu)與法-珀標(biāo)準(zhǔn)具相同,因?yàn)橛伤@得的透過(guò)光譜帶都比較窄,所以又叫窄帶干涉濾光片。這種濾光片的透過(guò)率對(duì)薄膜的損耗非常敏感,所以制備透過(guò)率很高、半寬度又很窄的濾光片是很困難的。多腔濾光片又叫矩形濾光片,它可以做窄帶帶通濾光片,又可以做寬帶帶通濾光片,制備波區(qū)較寬,透過(guò)率高,波紋小的多腔濾光片同樣是困難的。

誘增透濾光片是在金屬膜兩邊匹配以適當(dāng)?shù)碾娊橘|(zhì)膜系,以增加勢(shì)透過(guò)率,減少反射,使通帶透過(guò)率增加的一類濾光片。雖然它的通帶性能不如全電介質(zhì)法-珀濾光片,卻有著很寬的截止特性,所以還是有很大的應(yīng)用價(jià)值。特別在紫外區(qū),一般電介質(zhì)材料吸收都比較大的情況下,它的優(yōu)越性就更明顯了。圖3的a、b、c分別給出法布里-珀羅型濾光片、多腔濾光片和誘增透濾光片的典型曲線。



真空鍍膜機(jī)的全新發(fā)展真空泵與隔膜泵機(jī)械密封的安裝與使用

真空鍍膜機(jī)的全新發(fā)展真空泵與隔膜泵機(jī)械密封的安裝與使用 真空鍍膜機(jī)的發(fā)展相當(dāng)迅速,隨著生產(chǎn)率的提高,生產(chǎn)費(fèi)用大大降低,已經(jīng)為真空鍍膜產(chǎn)品的普遍使用鋪平了道路。 以卷繞式真空鍍膜機(jī)為例,剛開(kāi)發(fā)時(shí)可鍍的薄膜基材寬度是150mm,目前已達(dá)2253mm?;木硗驳拇缶韽绞?000mm,大卷繞速度750m/min。自動(dòng)裝卸的半連續(xù)卷繞式真空鍍膜機(jī)鍍膜時(shí)間占整個(gè)周期的75%,輔助操作時(shí)間只占25%。隨著計(jì)測(cè)技術(shù)、控制技術(shù)的進(jìn)步和電子計(jì)算機(jī)的應(yīng)用,卷繞式真空鍍膜機(jī)正向著高度自動(dòng)化和高度可靠性的方向發(fā)展。