硫酸含量在180~240g/L之間，硫酸銅含量在75g/L左右，鍍液中存在微量氯離子，可作為輔助光亮劑和銅光亮劑發(fā)揮光澤作用。銅光亮劑的加入量為3/5ml/L，加銅光亮劑時(shí)通常采用千安培法，或根據(jù)實(shí)際生產(chǎn)板的效果，計(jì)算出全板電鍍的電流一般為2A/2分米乘以紙板上電鍍面積，銅缸溫度一般控制在22°32度。

PVD真空電鍍原理是什么？主要電弧-濺射技術(shù)，使用陰陽極之間的放電離化氣，使離子在作為陰極的靶材電場的作用下加快轟擊靶材，濺射出許多的靶原子，中性的靶原子或離子堆積在基片上，構(gòu)成固體薄膜。PVD真空電鍍與水鍍有什么不一樣？水鍍歸于化學(xué)作用鍍膜，可鍍制多種材料膜層，出產(chǎn)過程中會(huì)對環(huán)境造成嚴(yán)峻的污染，保色時(shí)長不如PVD。真空電鍍歸于物理堆積作用鍍膜，高溫爐內(nèi)掛鍍只可以電鍍小件不銹鋼產(chǎn)品，出產(chǎn)過程綠色環(huán)保無污染，契合歐美環(huán)保檢測規(guī)范，保色時(shí)長較好。

真空電鍍適用范圍比較廣，如ABS料、ABS PC料、PC料的產(chǎn)品。水電鍍因工藝較簡略，從設(shè)備到環(huán)境得要求均沒有真空離子鍍苛刻，從而被廣使用。但水電鍍有個(gè)弱點(diǎn)，只能鍍ABS料和ABS PC料（此料鍍的作用也不是很理想）。而ABS料耐溫只要80℃,這使得它的使用范圍被約束了。而真空電鍍可達(dá)200℃左右，這對使用在高溫的部件就可以進(jìn)行電鍍處理了。像風(fēng)嘴、風(fēng)嘴環(huán)使用PC料，這些部件均要求耐130℃的高溫。另，一般要求耐高溫的部件，做真空電鍍都要在后面噴一層UV油，這樣使得產(chǎn)品外表即有光澤、有耐高溫、一起又保證附著力。工藝流程作：產(chǎn)品外表清潔--〉去靜電--〉噴底漆--〉烘烤底漆--〉真空鍍膜--〉噴面漆--〉烘烤面漆--〉包裝。依據(jù)真空電鍍氣相金屬產(chǎn)生和沉積的辦法，真空塑料電鍍的辦法主要分為熱蒸發(fā)鍍膜法和磁控濺射鍍膜法兩種工藝。真空電鍍的一般做法是在素材上先噴一層底漆，再做電鍍。因?yàn)樗夭氖撬芰霞谧⑺軙r(shí)會(huì)殘留空氣泡，有機(jī)氣體，而在放置時(shí)會(huì)吸入空氣中的水分。另外，因?yàn)樗芰贤獗聿荒芷教?，直接電鍍的工件外表不潤滑，光澤低，金屬感差，而且?huì)呈現(xiàn)氣泡，水泡等不良情況。噴上一層底漆今后，會(huì)構(gòu)成一個(gè)潤滑平坦的外表，而且杜絕了塑料自身存在的氣泡水泡的產(chǎn)生，使得電鍍的作用得以展現(xiàn)。

真空電鍍的工作原理：1、電化學(xué)極化，由于陰極上電化學(xué)反應(yīng)速度小于外電源供給電子的速度，從而使電極電位向負(fù)的方向移動(dòng)而引起的極化作用。2、濃差極化，由于鄰近電極表液層的濃度與溶液主體的濃度發(fā)生差異而產(chǎn)生的極化稱濃差極化，這是由于溶液中離子擴(kuò)散速度小于電子運(yùn)動(dòng)造成的。電鍍過程是鍍液中的金屬離子在外電場的作用下，經(jīng)電極反應(yīng)還原成金屬原子并在陰極上進(jìn)行金屬沉積的過程。