在光學(xué)鍍膜材料的應(yīng)用上，鍍膜靶材是核心技術(shù)，通過不同靶材中含有的稀有金屬不同而形成不同的光學(xué)鍍膜材料，普遍應(yīng)用的稀有金屬有氟化釔、氟化鐠、鍺、硫化鋅、氟化鎂、二氧化鈦、氧化鋯、鈷、、硒等金屬。在反射鏡的光學(xué)材料中普遍用到銅、鉬、硅、鍺等金屬，在輸出端和透射光學(xué)原件中鍺、、硒化鋅等應(yīng)用廣泛。在反射鏡的光學(xué)材料中普遍用到銅、鉬、硅、鍺等金屬，在輸出端和透射光學(xué)原件中鍺、、硒化鋅等應(yīng)用廣泛。

隨著鍍膜技術(shù)的不斷推廣，光學(xué)鍍膜技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域也在不斷拓寬，這些具有優(yōu)異物理特性的金屬將隨著我們生活水平的提高為我們的生活帶來更多的精彩。

鍍膜是用物理或化學(xué)的方法在材料表面鍍上一層透明的電解質(zhì)膜，或鍍一層金屬膜，目的是改變材料表面的反射和透射特性。

光學(xué)鍍膜材料的原材料，絕大部分屬于儲量非常小的稀有金屬。這些稀有金屬隨著科技的發(fā)展，其需求長期看漲。(2)陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對面，把惰性氣體(如)通入已抽空的室內(nèi)，保持壓強(qiáng)約1。隨著鍍膜技術(shù)的不斷推廣，光學(xué)鍍膜技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域也在不斷拓寬，隨著我們生活水平的提高，這些具有優(yōu)異物理特性的金屬將為我們的生活帶來更多的精彩。

真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。 

周圍環(huán)境的好壞直接影響真空設(shè)備的正常使用；而真空設(shè)備的真空室或裝入里面的零件是否清洗，又直接影響設(shè)備的性能。如果空氣中含有大量的水蒸氣和灰塵，在真空室沒有經(jīng)過清洗的情況下用油封機(jī)械泵去抽氣，要達(dá)到預(yù)期的真空度很難的。