微弧氧化技術(shù)

       微弧氧化工藝將工作區(qū)域由普通陽極氧化的法拉第區(qū)域引入到高壓放電區(qū)域，克服了硬質(zhì)陽極氧化的缺陷，極大地提高了膜層的綜合性能。微弧氧化膜層與基體結(jié)合牢固，結(jié)構(gòu)致密，韌性高，具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性。該技術(shù)具有操作簡單和膜層功能可控的特點，而且工藝簡便，環(huán)境污染小，是一項全新的綠色環(huán)保型材料表面處理技術(shù)，在航空航天、機械、電子、裝飾等領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。在開通電源后，正脈沖電壓快速升高，電流迅速下降，作為陽極的待氧化試樣開始進(jìn)行陽極氧化,產(chǎn)生大量微小氣泡，同時在試樣表面形成了一層極薄的鈍化膜。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源

微弧氧化電解液組成及工藝條件

　     微弧氧化電解液組成：K2SiO3 5～10g/L，Na2O2 4～6g/L，NaF 0.5～1g/L，CH3COONa 2～3g/L，Na3VO3 1～3g/L；溶液pH為11～13；由于微弧氧化過程中工件表面具有較高的氧化電壓并通過較大的電解電流，使產(chǎn)生的熱量大部分集中于膜層界面處，而影響所形成膜層的質(zhì)量，因此微弧氧化必須使用配套的熱交換制冷設(shè)備，使電解液及時冷卻，保證微弧氧化在設(shè)置的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行。溫度為20～50℃；陰極材料為不銹鋼板；電解方式為先將電壓迅速上升至300V，并保持5～10s，然后將陽極氧化電壓上升至450V，電解5～10min。

       兩步電解法，靠前步：將鋁基工件在200g/L的鉀水玻璃水溶液中以1A/dm2的陽極電流氧化5min；微弧氧化是一種直接在有色金屬表面原位生長陶瓷層的新技術(shù)，微弧氧化技術(shù)是近十幾年在陽極氧化基礎(chǔ)上發(fā)展起來的，但兩者在機理上、工藝上以及膜層性能上都有許多不同之處。第二步：將經(jīng)靠前步微弧氧化后的鋁基工件水洗后在70g/L的Na3P2O7水溶液中以1A/dm2的陽極電流氧化15min。陰極材料為：不銹鋼板；溶液溫度為20～度為20～50℃微弧氧化電源、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線

微弧氧化技術(shù)的應(yīng)用  

       微弧氧化膜由于具有抗磨損、耐腐蝕、高介電和隔熱等特性，應(yīng)用在許多領(lǐng)域。如，航空、航天、汽車、船舶、機械、石油、化工、、電子等行業(yè)。同時也可用于建筑和民用工業(yè)中對裝飾性和耐磨耐蝕要求高的鋁基材的表面處理。盡管微弧氧化技術(shù)已經(jīng)在這些方面有些應(yīng)用，并且呈現(xiàn)新的應(yīng)用前景，但是推廣應(yīng)用的力度還不夠，這里包括技術(shù)和經(jīng)濟等多方面原因，有待于我們進(jìn)一步深入研究。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線

微弧氧化工藝研究

        微弧氧化的工藝研究主要集中在電流密度、電解液組成、電源模式、基材成分等工藝因素對氧化膜的厚度、結(jié)構(gòu)與性能的影響方面。 指出，電流密度對微弧氧化膜厚度有著決定性影響。微弧氧化突破傳統(tǒng)陽極氧化的限制，利用電極間施加很高的電壓使浸在電解液中的電極表面發(fā)生微弧放電現(xiàn)象，電壓的高低是影響微弧氧化的主要因素之一。在含有濃度6%水玻璃的電解液中，使用工業(yè)交流電源，對兒種不同鋁合金，依零件的不同幾何形狀和尺寸，電流密度在1--50A / cm2范圍內(nèi)，經(jīng)60次微弧氧化實驗的結(jié)果表明，形成的氧化膜厚度與電流密度成線性關(guān)系。