佛山市錦城鍍膜有限公司以耐高溫車輛燈具注塑 鍍膜為主的專業(yè)生產(chǎn)廠家，公司秉承“以質(zhì)取勝，求真務(wù)實(shí)，顧客至上”理念，歡迎廣大客戶光臨了解,我們將為你的產(chǎn)品錦上添花.

真空鍍膜之多弧離子鍍 ：該裝置的優(yōu)點(diǎn)是陰極電弧源既是蒸發(fā)源和離化源 ,又是加熱源和轟擊源,不用熔池,弧源可任意方位,多源布置。離化率高,一般可達(dá)60%-80%蒸發(fā)沉積速率快, 入射粒子能量高,沉積膜的質(zhì)量和附著性能好。可蒸發(fā)各種導(dǎo)電材料,金屬或合金, 成份不受限制。鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對膜層沉積的影響：輝光清洗：對工件施加負(fù)偏壓，產(chǎn)生輝光放電，利用ya離子轟擊工件表面，這種輝光放電清洗作用比較柔和，一般采取由弱到強(qiáng)的轟擊清洗順序，是怕工件太臟時一開始就強(qiáng)轟擊，可能產(chǎn)生強(qiáng)烈的打火而損傷工件。能進(jìn)行反應(yīng)鍍膜,缺點(diǎn)是易于產(chǎn)生液滴,組織不致密。

鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對膜層沉積的影響：

弧靶電流：弧靶電流越大，靶材蒸發(fā)量越大，靶面溫度越高，冷卻越差，弧靶產(chǎn)生的液滴大顆粒越多，膜層外觀越差，膜層中的缺陷越多。

本底漏率：本底漏率是指真空室在未加入氣體單位之前本身的單位漏率，漏率越大，進(jìn)入爐內(nèi)的雜氣就越多，不管真空度多高，這會嚴(yán)重影響鍍膜過程中爐內(nèi)氣氛的純度和工件表面的潔凈度，會破壞膜層的結(jié)合力和膜層顏色的純度。

鍍膜技術(shù)也叫薄膜技術(shù)，是在真空條件下采用物理或化學(xué)方法，使物體表面獲得所需的膜體。鍍膜技術(shù)是初起源于20世紀(jì)30年代，直到70年代后期才得到較大發(fā)展的一種技術(shù)。濺射過程是建立在氣體放電基礎(chǔ)上的，放電從低壓下開始的，氣體離子與靶材相互作用，離子不斷的撞擊靶表面，靶材從靶表面被轟擊下來然后在靶附近的基片（玻璃）上沉積下來，凝結(jié)成一層薄膜。目前已被廣泛應(yīng)用于耐酸、耐蝕、耐熱、表面硬化、裝飾、潤滑、光電通訊、電子集成、能源等領(lǐng)域.