湖北豐熱科技有限公司（原武漢離子熱處理研究所），專業(yè)制造輝光離子滲氮爐的高新技術企業(yè)；是集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售安裝輝光離子滲氮爐，并為用戶提供成套的離子滲氮工藝技術服務。

輝光離子滲氮的特點有：離子轟擊有凈化表面作用，自動去除鈍化膜，不銹鋼、耐熱鋼材料無需預先去除鈍化膜，可使不銹鋼、耐熱鋼工件直接滲氮。化合物層結構、滲層厚度和組織可以控制。處理溫度范圍較寬，即使在350℃以下也能獲得一定厚度的滲氮層。

濺射靶起輝放電后，當電源的輸出脈沖的重復頻率足夠高時，由于真空腔體內(nèi)的導電離子還沒有完全被中和完畢，第二個(以后)重復脈沖的復輝電壓與濺射靶的工作電壓接近或相同。該輝光離子滲氮爐包括內(nèi)隔熱屏，在內(nèi)隔熱屏內(nèi)壁上裝有發(fā)熱體，發(fā)熱體與電極間采用螺栓聯(lián)接，發(fā)熱體與內(nèi)壁由陶瓷絕緣體隔離絕緣，絕緣體由螺栓固定在隔熱屏內(nèi)壁上。當電源輸出脈沖的重復頻率很低(例如幾百HZ以下)或滅弧時間過長(大于100ms以上)，濺射靶起輝放電后，由于真空腔體內(nèi)的導電離子已基本被中和掉，第二個(以后)重復脈沖的復輝電壓恢復至較高數(shù)值，與點火起輝時的高電壓接近或相同。??

法國的Massines小組、加拿大的Radu小組和俄羅斯的Golubovskii小組對APGD的形成機理也進行了比較深入的研究工作。Massines小組對氦氣和氮氣的APGD進行了實驗研究和數(shù)值模擬 ，除了測量外加電壓和放電電流之外，他們用曝光時間僅10ns的ICCD相機拍攝了時間分辨的放電圖像，用時空分辨的光譜測量記錄了放電等離子體的發(fā)射光譜，并結合放電過程的一維數(shù)值模擬，他們認為，氮氣中的均勻放電仍屬于湯森放電，而氦氣中均勻放電才是真正意義上的輝光放電，或亞輝光放電。1988年，Kanazawa等人報道了在大氣壓下使用氦氣獲得了穩(wěn)定的APGD的研究成果，并通過實驗總結出了產(chǎn)生APGD要滿足的三個條件：（1）激勵源頻率需在1kHz以上。他們還認為，得到大氣壓下均勻放電的關鍵是在較低電場下緩慢發(fā)展大量的電子雪崩。

目前，對APGD的研究結果和認識是仁者見仁，智者見智。APGD的研究方興未艾，已經(jīng)受到國內(nèi)外許多大學和研究機構的廣泛重視。射頻磁控濺射氣體放電時，由于射頻靶電源輸出交變高頻正弦電壓波形，致使電子碰撞工作氣體的幾率大為增多，工作氣體離化率高，等離子阻抗低，射頻磁控濺射膜層沉積速率為二極射頻濺射的數(shù)倍。由于大氣壓輝光放電目前還沒有一個認可標準，許多實驗所看到的放電現(xiàn)象和輝光放電很相似即出現(xiàn)視覺特征上呈現(xiàn)均勻的“霧狀”放電，而看不到絲狀放電，但這種放電現(xiàn)象是否屬于輝光放電目前還沒有共識和定論。