真空鍍膜技術(shù)一般分為兩大類，即物理氣相沉積技術(shù)和化學(xué)氣相沉積技術(shù)。

物理氣相沉積技術(shù)是指在真空條件下，利用各種物理方法，將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子，直接沉積到基體表面上的方法。

真空鍍膜有哪些優(yōu)勢呢？

簡單清潔，不吸塵。

使塑料外表有導(dǎo)電性，改善美觀，外表光滑，金屬光澤彩色化，大大提高裝飾性。

改進(jìn)外表硬度，原塑膠外表比金屬軟而易受損害，經(jīng)過真空鍍膜技術(shù)，硬度及耐磨性大大添加。

削減吸水率，鍍膜次數(shù)愈多，吸水率下降，制品不易變形，提高耐熱性。

在鍍膜領(lǐng)域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜性能的一個(gè)重要因素。薄膜的成膜過程，是一個(gè)物質(zhì)形態(tài)的轉(zhuǎn)變過程，不可避免地在成膜后的膜層中會有應(yīng)力存在，對于多層膜來說有不同膜料的組合，各膜層體現(xiàn)出的應(yīng)力是有所不同的，有的是張應(yīng)力、有的是壓應(yīng)力，還有膜層及基片的熱應(yīng)力。

輔助氣體的充入要考慮膜料的放氣，鍍前對膜料充分預(yù)熔充分放氣，也可以避免由于蒸鍍中膜料放氣造成真空度過度下降，從而影響膜強(qiáng)度。

真空鍍膜是一種產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)。真空鍍的基本原理：在真空條件下，金屬、金屬合金等被蒸發(fā)蒸發(fā)，然后沉積到基體表面，蒸發(fā)法通常采用電阻加熱，電子束轟擊鍍料，使其蒸發(fā)成氣相，然后沉積到基體表面。在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。真空鍍膜有三種形式,即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍.蒸發(fā)鍍膜 通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。