提高分辨力一直是光刻技術(shù)發(fā)展的主旋律，由瑞利公式R=K1λ/NA可知，縮短波長(zhǎng)是提高分辨力的有效手段。每次更短波長(zhǎng)光刻的應(yīng)用，都促使集成電路性能得到極大提升。

　光電所采用三角法測(cè)量，Z向位移轉(zhuǎn)化為標(biāo)記光柵與檢測(cè)光柵橫向位移ΔX，通過(guò)兩光路的信號(hào)比對(duì)橫向位移量ΔX進(jìn)行檢測(cè)，實(shí)現(xiàn)檢焦。英國(guó)Cranfield大學(xué)精密工程研究所(CUPE)研制的大型超精密金剛石鏡面切削機(jī)床，可以加工大型X射線天體望遠(yuǎn)鏡用的非球面反射鏡(大直徑可達(dá)1400mm，大長(zhǎng)度為600mm的圓錐鏡)。該方法的兩光路結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)相同，兩信號(hào)相位相差，利用兩光路的信號(hào)比求解硅片的離焦量，消除了光強(qiáng)波動(dòng)的影響，實(shí)現(xiàn)了納米級(jí)的檢焦精度。