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發(fā)布時(shí)間:2020-09-08 03:32  
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蝕刻:蝕刻(etching)是將材料使用bai化學(xué)反應(yīng)或物理du撞擊作用而移除的技術(shù)。蝕刻的原理zhi是氧化還原反應(yīng)中的置換dao反應(yīng):2AgNo3 Cu=Cu(No3)*2 2Ag。利用蝕刻液與銅層反應(yīng),蝕去線路板上不需要的銅,得到所要求的線路。蝕刻技術(shù)可以分為濕蝕刻(wet etching)和干蝕刻(dry etching)兩類。
顯影:顯影是在印刷、影印、復(fù)印、曬圖等行業(yè)中,讓影像顯現(xiàn)的一個(gè)過(guò)程。通過(guò)堿液作用,將未發(fā)生光聚合反應(yīng)之感光材料部分沖掉。顯影包括正顯影和反轉(zhuǎn)顯影。

原因可能有如下幾個(gè)方面:
1,菲林顏色過(guò)淺,底片深色遮蓋部分被zhi微弱紫外線照射,發(fā)生過(guò)微弱的聚合反應(yīng)。
2,如果用干膜的,那么可能膜過(guò)厚,如果用的液態(tài)感光油墨,則可能油墨厚度沒(méi)調(diào)整好,或者涂布機(jī)刀沒(méi)調(diào)整好。
3,批量生產(chǎn)前沒(méi)有做好前置化驗(yàn),沒(méi)做顯影點(diǎn)測(cè)試,則可能因?yàn)闇囟冗^(guò)低,顯影液濃度不夠,或者速度過(guò)快而造成顯影不凈。