曝光顯影之怎樣提高精密五金蝕刻系數(shù)?精密五金蝕刻發(fā)作突沿。通常印制板在蝕刻液中的時間越長，精密五金蝕刻越嚴重。精密五金蝕刻嚴重影響印制導線的精度，嚴重精密五金蝕刻將使制作精密導線成為不可能。當精密五金蝕刻和突沿降低時，蝕刻系數(shù)就添加，高的蝕刻系數(shù)標明有堅持細導線的才干，使蝕刻后的導線靠近原圖標準。電鍍蝕刻抗蝕劑無論是錫-鉛合金，錫，錫-鎳合金或鎳，突沿過度都會構(gòu)成導線短路。因為突沿簡略開裂下來，在導線的兩點之間構(gòu)成電的橋接。

目視定位適用于重氮照相底法。重氮底片呈棕色或橘紅色的半透明狀態(tài)，但不透紫外光，透過重氮圖像使底片的焊盤與印制電路板的孔重合對準，然后貼上膠帶貼牢，即可進行曝光。

固定銷釘定位固定銷釘分為固定照相底片和固定印制電路板兩套系統(tǒng)，通過調(diào)整兩銷釘?shù)奈恢?，實現(xiàn)底片與印制電路板的重合對準。

曝光后，聚合反應還要持續(xù)一段時間，為保證工藝的穩(wěn)定性，曝光后不要立即揭去聚酯膜，以使聚合反應持續(xù)進行。待顯影前再揭去聚膜。

非曝光區(qū)的光刻膠由于在曝光時并未發(fā)生化學反應，在顯影時也就不會存在這樣的酸堿中和，因此非曝光區(qū)的光刻膠被保留下來。經(jīng)過曝光的正膠是逐漸溶解的，中和反應只在光刻膠的表面進行，因此正膠受顯影液的影響相對比較小。進行顯影的方式有很多種，廣泛使用的方法是噴灑方法。這種顯影方式可以分為三個階段：硅片被置于旋轉(zhuǎn)臺 上，并且在硅片表面上噴灑顯影液；然后硅片將在靜止的狀態(tài)下進行顯影；顯影完成后，需要經(jīng)過漂洗，之后再烘干。

光刻機目前一直處于壟斷地位，在光刻機領域，有名的就要提到ASML公司了，它是一家荷蘭的公司。剛開始光刻機領域比較厲害的兩個國家是荷蘭和日本，而在2017年之后，ASML聯(lián)合臺積電推出了光源浸沒式系統(tǒng)開始，將日本企業(yè)甩開距離，從此穩(wěn)坐頭把交椅的寶座。技術(shù)一直處于壟斷地位。

一臺好的光刻機需要各種的零件支持，而這些零件大部分都來自西方的國家。而這些基本上都是禁止對我們國家出口，因此我國光刻機技術(shù)受到限制。