金屬首飾真空鍍膜機特點：

1、磁控濺射的原理是基于陰極輝光放電理論，擴大在陰極表面磁場接近工件表面，以增加濺射原子的電離率。它保留了磁控濺射的細膩和光澤度增加。2、電弧等離子體蒸發(fā)源性能可靠，能夠根據(jù)工作電流30A時，優(yōu)化陰極和磁場結(jié)構(gòu)涂層，涂膜和基材界面產(chǎn)生原子擴散，再加上離子束輔助功能沉積。

應(yīng)用行業(yè)：設(shè)備被廣泛應(yīng)用于IPG的時鐘，IPS手表和鐘表，的IP，手機外殼，五金，潔具，刀具，防摩擦的工具，模具和模具等，它可以制備TiN，TiCN涂層，氮化TIALN，TiNbu，TiCrN，氮化鋯，各類鉆石薄膜（DLC）。

鍍膜前后的效果有哪些區(qū)別

沒有做涂層時的問題：(1)鏡面很容易亂花，甚至做表面清潔時用柔軟的紙巾擦拭也會亂花(2)使用不到半個月鏡面就亂花或變霧(3)反復(fù)多次拆卸拋光，不僅成本高昂，而且嚴重影響生產(chǎn)效率，甚至無法正常交貨給客人

通過鏡面塑膠模具涂層鍍膜設(shè)備鍍膜后：(1)鏡面完全沒有受損：光亮度沒有下降、沒有產(chǎn)生小白點或其它花紋等(2)由于涂層后表面硬度的提高，在做模具保養(yǎng)時，用紙巾擦拭，甚至手碰到模具，都不用擔(dān)心表面亂花(3)使用時間提高到半年，甚至1年以上(4)在涂層磨損后，仍然可以褪去涂層，再拋光重鍍再使用(5)無論生產(chǎn)效率，還是成本效益，都取得了很好的收益

真空鍍膜設(shè)備離子鍍膜上的創(chuàng)新方法

真空鍍膜設(shè)備離子鍍膜上的創(chuàng)新方法 真空鍍膜設(shè)備多弧離子鍍膜上的創(chuàng)新方法，所謂多弧離子鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于室內(nèi)，真空鍍膜機多弧離子鍍膜采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發(fā)或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。 多弧離子鍍膜的方法，在條件下成膜有很多優(yōu)點，可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)（如氧化等），以及減少成膜過程中氣體分子進入薄膜中成為雜質(zhì)的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。