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發(fā)布時(shí)間:2020-12-25 09:42  

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由水平調(diào)整的自準(zhǔn)直儀發(fā)出一束激光穿過(guò)真空室的玻璃窗照射固定于工作臺(tái)上的反射鏡,在大氣環(huán)境下調(diào)變補(bǔ)償調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu),

使反射光束進(jìn)入自準(zhǔn)直儀接收視場(chǎng),記錄兩維角度偏差。真空鍍膜加工

按有限元計(jì)算的真空狀態(tài)下的補(bǔ)償量再次調(diào)整,顯然,此時(shí)的反射光束已遠(yuǎn)離自準(zhǔn)直儀接收視場(chǎng),但一旦真空室進(jìn)入真空狀態(tài),

反射光束又重新進(jìn)入自準(zhǔn)直儀的接收視場(chǎng),記錄此時(shí)的兩維角度偏差。前后兩次顯示的兩維角度偏差基本吻合。




真空鍍膜

②光密度法。光密度(OD)定義為材料遮光能力的表征。光密度沒(méi)有量綱單位,是一個(gè)對(duì)數(shù)值,通常僅對(duì)鍍鋁薄膜和珠光膜進(jìn)行光密度測(cè)量。 光密度是入射光與透射光比值的對(duì)數(shù)或者說(shuō)是光線透過(guò)率倒數(shù)的對(duì)數(shù)。

計(jì)算公式為: OD=lg(入射光/透射光)或OD=lg(1/透光率) 通常鍍鋁膜的光密度值為l~3(即光線透過(guò)率為0.10/0~10%),數(shù)值越大鍍鋁層越厚。 光密度OD值、方阻值對(duì)應(yīng)的鋁層厚度如表6-7所示。 表6-70D值、方阻值和鋁層厚度對(duì)照表 光密度 OD值 電阻值 Ohm/Square方阻值 鋁層厚度 A 1.6 3 320 1.8 2.7 360 2.0 2.35 400 2.2 2.05 440 2.4 1.8 480 2.6 1.55 520 2.8 1.3 560 3.0 1.0 600




真空鍍膜的功能是多方面的,這也決定了其應(yīng)用場(chǎng)合非常豐富??傮w來(lái)說(shuō),真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果,在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能,提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導(dǎo)電效果。


真空鍍膜中用到的離子源種類較多。主要有:高頻離子源,弧放電離子源,kaufman離子源,射頻離子源,霍爾離子源,冷陰極離子源,電子回旋離子源,陽(yáng)極層離子源,感應(yīng)耦合離子源可能還有很多其它類型離子源未被提到。