Parylene涂層是在室溫下在元件上自發(fā)形成的，不需要經升溫固化過程，不需要對基材施加室溫以上的溫度和更多的時間來讓膜生長。由于這種聚合是自發(fā)的不需要催化劑。促進聚合的催化劑通常是離子或離子化合物，固化后它們會多少殘留一些在涂層里。這些殘留的物質能參與電荷的遷移，在一定程度上影響涂層的電性能。又由于Parylene涂層是在室溫下形成的，因此可以防止主要因室溫和固化溫度變化不同由熱膨脹引起的應力問題。

杰出的絕緣性能

除了這些內在的性質以外Parylene類涂層有優(yōu)異的電性能，它有優(yōu)異的介電性能--低的介質損耗和高的介電強度，同時它還具有優(yōu)良的機械性能，有高的機械強度和低的摩擦系數，這二者的結合使Parylene成為對小型繞線傷害元件能適用的絕緣層。

Parylene在磁芯上的應用 　　　　

Parylene真空涂敷技術有優(yōu)異的電性能，介電性能和低的介質損耗及高的介電強度。同時它還具有優(yōu)良的機械性能，高的機械強度和低的摩擦系數，它不僅能提供絕緣而且也能消除摩擦引起的繞線時對線的損傷。

Parylene涂層較薄且厚度均勻使繞線器件能保持大的繞線窗，并在棱角處有足夠的涂層厚度，使性能參數極大的提高。明顯優(yōu)于刷涂,浸涂,噴涂等其它涂敷技術。它的先進性主要是氣相單體直接形成固體涂層而沒有液態(tài)的過程。涂層是從基材的表面向外?生長?，形成一個均勻厚度涂層，在1微米以下時也是無的。又由于Parylene涂層是在室溫下形成的，因此可以防止固化時由熱膨脹引起的應力問題。

蒸發(fā)源有三種類型。

①電阻加熱源：用難熔金屬如鎢、鉭制成舟箔或絲狀,通以電流,加熱在它上方的或置于坩堝中的蒸發(fā)物質電阻加熱源主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。

②高頻感應加熱源：用高頻感應電流加熱坩堝和蒸發(fā)物質。

③電子束加熱源：適用于蒸發(fā)溫度較高（不低于2000[618-1]）的材料，即用電子束轟擊材料使其蒸發(fā)。

蒸發(fā)鍍膜與其他真空鍍膜方法相比，具有較高的沉積速率，可鍍制單質和不易熱分解的化合物膜。