佛山市錦城鍍膜有限公司以耐高溫車輛燈具注塑 鍍膜為主的專業(yè)生產(chǎn)廠家，公司秉承“以質(zhì)取勝，求真務(wù)實(shí)，顧客至上”理念，歡迎廣大客戶光臨了解,我們將為你的產(chǎn)品錦上添花.

真空鍍膜之磁控濺射鍍膜 ：磁控濺射的基本原理就是以磁場(chǎng)改變電子運(yùn)動(dòng)方向， 束縛和延長(zhǎng)電子的運(yùn)動(dòng)軌跡， 從而提高了電子對(duì)工作氣體的電離幾率和有效地利用了電子的能量。真空鍍膜技術(shù)優(yōu)點(diǎn)主要表現(xiàn)在以下幾個(gè)方面：5、改善表面硬度，原塑膠表面比金屬軟而易受損害，通過(guò)真空鍍膜技術(shù)，硬度及耐磨性大大增加。因此在形成高密度等離子體的異常輝光放電中正離子對(duì)靶材轟擊所引起的靶材濺射更加有效，同時(shí)受正交電磁場(chǎng)的束縛的電子只能在其能量將要耗盡時(shí)才能沉積在基片上。這就是磁控濺射具有 “低溫”、“高速”兩大特點(diǎn)的機(jī)理。

鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對(duì)膜層沉積的影響 ：

偏壓：偏壓施加于工件上，在輝光清洗時(shí)工件（陰極）與爐體之間產(chǎn)生輝光放電，部分氣被電子離化產(chǎn)生離子，離子（帶正電）在負(fù)偏壓作用下受工件吸引轟擊清洗工件表面，偏壓越大，對(duì)工件的轟擊凈化越干凈，但同時(shí)工件本身的溫升也越大，特別是尖角位棱角位置；在離子轟擊中用于加速離子，提高離子轟擊工件表面的能量，去除表面氧化層和吸附物，達(dá)到提高膜層結(jié)合力的作用。濺射的鍍料原子不是靠加熱方式蒸發(fā)，而是靠陰極濺射由靶材獲得沉積原子。

鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對(duì)膜層沉積的影響 ：

在膜層沉積時(shí)，用于增加離子能量，促進(jìn)和改善薄膜生長(zhǎng)，提高膜基結(jié)合力。

偏壓越大離子附加能量越強(qiáng)，沉積過(guò)程中對(duì)膜層的轟擊凈化作用越明顯，膜層越致密，同時(shí)顏色會(huì)越淺，膜層L值（亮度）會(huì)增加，顯微硬度會(huì)增加、同時(shí)膜層外觀粗糙度會(huì)變差，沉積過(guò)程中工件和膜層溫升越大，偏壓太大可能使工件變形受傷，或產(chǎn)生熱應(yīng)力崩膜。

有機(jī)鍍膜與無(wú)機(jī)鍍膜的根本區(qū)別

真正的玻璃鍍膜應(yīng)為純無(wú)機(jī)質(zhì)成分，成膜后不應(yīng)含有任何j基團(tuán)（CH3）。利用紅外線光譜吸收分析法，可以了解各種鍍膜原料的內(nèi)部化學(xué)成分，這是區(qū)別真假無(wú)機(jī)質(zhì)鍍膜產(chǎn)品的重要科學(xué)依據(jù)。